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      浸沒式光刻系統(tǒng)中光束擴束系統(tǒng)的設計

      2017-03-30 05:07:58李美萱王美嬌
      科學中國人 2017年9期
      關鍵詞:柱面光刻光束

      李美萱,王美嬌

      長春理工大學光電信息學院

      浸沒式光刻系統(tǒng)中光束擴束系統(tǒng)的設計

      李美萱,王美嬌

      長春理工大學光電信息學院

      在超大規(guī)模集成電路中,為了滿足45nm節(jié)點光刻曝光光學系統(tǒng)對高分辨率的要求,設計了一種光束擴束系統(tǒng),用于提高照明系統(tǒng)的均勻性。由于準分子激光器在水平和垂直方向上光束發(fā)散角有較大差異,從激光器到照明系統(tǒng)的傳輸光路最長達20m,垂直方向激光最大發(fā)散角達到2.1mrad,若不對出射的激光束進行準直,則激光傳輸20m后,激光光斑尺寸將達到54.5mm以上,這對后續(xù)的系統(tǒng)設計都是不利的,因而必須首先對激光器出射光束進行準直,然后再傳輸。通過調節(jié)X向柱面鏡與Y向柱面鏡之間的距離,即第一光學面(球面鏡前表面)到Y方向柱面鏡后表面距離調整為122.058mm時消除了這種影響,保證輸出光束滿足指標要求。

      浸沒式光刻;光束擴束;光學設計

      引言

      自70年代IC誕生至今,短短幾十年,經歷了從小規(guī)模到超大規(guī)模和特大規(guī)模集成電路的發(fā)展階段[1]。隨著對超大規(guī)模集成電路器件的迫切需求,微電子光學光刻技術得到飛速發(fā)展。

      集成電路(IC)是將大量的二極管、三極管、電阻電容等元件,利用半導體工藝級聯封裝在一塊單晶硅片上,實現特定功能的電子線路,它廣泛應用于各種電子設備之中[2]。自20世紀80年代,16兆DRAM的產生,標志著世界開始進入超大規(guī)模集成電路(VL?SI)階段,VSLI成為所有高科技領域發(fā)展的基礎[3]。浸沒式光刻照明系統(tǒng)是超大規(guī)模集成電路的主要器件[4]。為掩模面提供均勻照明是光刻照明系統(tǒng)主要功能,傳統(tǒng)的勻光單元主要利用像差勻光、非球面透鏡勻光、棱鏡勻光、透鏡陣列勻光、菲涅爾透鏡勻光、積分棒勻光和反射鏡勻光[5]。采用以上勻光方式對照明系統(tǒng)進行仿真發(fā)現掩膜面上不同照明模式的均勻性在96%-98%之間,良好的照明均勻性能夠獲得高分辨率[6]。反之,如果照明均勻性較差,那么會造成各個視場分辨率存在差異,曝光線條的粗細不一致,嚴重影響光刻機的性能[7]。本論文設計由復眼透鏡、復眼聚光鏡、均勻性補償器和耦合鏡組構成的勻光系統(tǒng)可使系統(tǒng)在傳統(tǒng)照明和離軸照明模式下對掩膜面的非均勻性均低于0.5%,對改善最終的曝光質量具有重要的意義[8]。

      1 光束擴束系統(tǒng)設計要求

      擴束系統(tǒng)光學設計要求如下,入射激光光束尺寸:12.5mm× 12.8mm(含光斑位置漂移最大值);入射激光發(fā)散角:2.1mrad× 1.1mrad(含光束指向漂移最大值);光束傳輸距離:5m~20m可調;擴束后Y向光斑尺寸:20mm≤y≤30mm;X、Y兩個方向光斑尺寸比值:0.7≤x/y≤1;X、Y兩個方向光束發(fā)散角:≤2mrad;X、Y兩個方向光束發(fā)散角之差:θx-θy≤1mrad。

      2 光束擴束系統(tǒng)設計

      在設計中準分子激光器輸出光束的橫截面為近似正方形,為了使激光光束的傳播距離改變時易于調節(jié)出射角度,可采用一組負光焦度柱面鏡先進行擴束,再用一正光焦度球面鏡對水平方向和垂直方向進行準直。

      采用的方案為:三片式的結構,包含兩片柱面鏡和一片球面鏡,兩片柱面鏡光焦度分別為垂直方向和水平方向,將球面鏡和兩片柱面鏡組合,分別實現對垂直和水平方向進行準直擴束??紤]到后續(xù)用于照明模式變換的衍射元件的口徑不能太大,最終設計目標光束口徑為28.5mm×28.5mm,發(fā)散角差<1mrad。

      激光傳輸距離在5米~20米范圍內變化時,通過調節(jié)兩組柱面鏡組和球面鏡之間的間隔來保證輸出光束尺寸和發(fā)散角滿足設計指標要求。

      當激光傳輸距離在5米~20米范圍內變化時,不需要調透鏡間隔,即可保證輸出激光光束口徑和發(fā)散角滿足設計指標要求。

      3 結論

      對X方向和Y方向擴束整形系統(tǒng)分開進行設計,水平方向放大倍率為2.235倍,垂直方向放大倍率為2.297倍,水平方向最終發(fā)散角為1mrad,垂直方向最終發(fā)散角為1.8mrad,激光傳輸距離在5米~20米范圍內變化時,不需要調透鏡間隔,保證目標光束口徑在28±0.5mm范圍內,Y向柱面鏡到球面鏡前表面距離為121.50mm,X向柱面鏡到球面鏡前表面距離為117.845mm。

      將設計好的X方向和Y方向擴束整形系統(tǒng)進行組合,發(fā)現X柱面鏡對Y方向的擴束整形結果有影響,通過調節(jié)X向柱面鏡與Y向柱面鏡之間的距離,即第一光學面(球面鏡前表面)到Y方向柱面鏡后表面距離調整為122.058mm時消除了這種影響,保證輸出光束滿足指標要求。

      設計的擴束整形系統(tǒng)結構圖如下,球面鏡和柱面鏡X組合實現對激光光束X方向進行擴束整形,球面鏡和柱面鏡Y組合實現對激光光束Y方向進行擴束整形。

      圖1 擴束整形系統(tǒng)設計結果

      該系統(tǒng)的優(yōu)點:激光傳輸距離在5米~20米范圍內變化時,不需要調透鏡間隔,保證目標光束口徑在28.5±0.5mm范圍內,X方向發(fā)散角為1.0mrad,Y方向發(fā)散角為1.8mrad。

      [1]肖艷芬,朱菁,楊寶喜.用于光刻機照明均勻化的微柱面鏡陣列設計[J].中國激光,2013,40(2):0216001

      [2]宋強,朱菁,王健.基于混合梯度下降的高性能光刻機離軸照明衍射光學元件設計[J].光學學報,2015,35(1):0122005

      [3]胡中華,楊寶喜,朱菁.用于投影光刻機光瞳整形的衍射光學元件設計[J].中國激光,2013,40(6):0616001

      [4]張巍,鞏巖.投影光刻離軸照明用衍射光學元件設計[J].光學精密工程,2008,16(11):2081-2086.

      [5]趙陽,鞏巖.深紫外光刻照明系統(tǒng)光束整形單元的設計[J].光學精密工程,2011,19(1):29-34

      [6]趙陽,鞏巖.提高深紫外光刻照明系統(tǒng)擴束單元光束均勻性的方法[J].光學學報,2012,32(8):0822004

      [7]張巍,鞏巖.投影光刻離軸照明用衍射光學元件設計[J].光學精密工程,2008,16(11):2081-2086.

      [8]張巍.“神光”裝置大尺寸衍射光學元件設計及其應用研究[D].博士學位論文1.中國科學技術大學物理系,2007.

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