王亞男,王文炎,李鵬偉,梅博,洪根深
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MTM反熔絲器件編程單元的空間應(yīng)用適應(yīng)性評估
王亞男1,王文炎1,李鵬偉1,梅博1,洪根深2
(1. 中國航天宇航元器件工程中心,北京 100094;2. 中國電子科技集團(tuán)公司第58研究所,無錫 214072)
文章結(jié)合航天應(yīng)用空間環(huán)境要求以及MTM反熔絲器件的特點,對MTM反熔絲器件編程單元的航天應(yīng)用特性進(jìn)行了分析,提出了MTM反熔絲單元的可靠性評估方法,并對MTM反熔絲單元編程前后的可靠性進(jìn)行了評估;從抗總劑量和抗單粒子效應(yīng)兩方面對MTM反熔絲器件的空間環(huán)境適應(yīng)性進(jìn)行試驗驗證。結(jié)果表明:MTM反熔絲工藝滿足空間環(huán)境應(yīng)用需要,采用該工藝的器件應(yīng)用于航天器具有較高的可靠性和空間環(huán)境適應(yīng)性。
MTM;反熔絲器件;空間應(yīng)用;可靠性評估;空間環(huán)境適應(yīng)性
反熔絲技術(shù)具有單元小、工作頻率高、保密性好、非易失性等優(yōu)點,被廣泛用于電子系統(tǒng)的存儲和高速現(xiàn)場可編程器件中[1-3]。目前,主要的反熔絲技術(shù)有柵氧化層反熔絲、MTM(Metal to Metal)反熔絲和ONO(氧化物-氮化物-氧化物)反熔絲[4-5]。與柵氧化層反熔絲結(jié)構(gòu)相比,MTM反熔絲結(jié)構(gòu)在編程后電阻分布一致性更好;與ONO反熔絲相比,MTM反熔絲工藝尺寸更小、集成度更高,因此MTM反熔絲工藝被應(yīng)用于大規(guī)模的集成電路制造中[6],例如非易失性一次可編程存儲器(PROM)及可編程邏輯控制器件(FPGA)。由于MTM反熔絲單元的輻射敏感度較低,將MTM反熔絲技術(shù)運用到器件中,可制作出高可靠性、抗輻射的PROM和FPGA,在空間應(yīng)用領(lǐng)域具有極大的實用價值。
為驗證MTM反熔絲器件編程單元的空間應(yīng)用適應(yīng)性,獲得其可靠性和耐空間輻射能力的數(shù)據(jù),本文系統(tǒng)地開展了MTM反熔絲單元的可靠性及抗輻射能力等空間環(huán)境適應(yīng)性的評估研究。
MTM反熔絲通常是一種“三明治”結(jié)構(gòu),在兩層金屬中間沉積反熔絲材料而形成[7]。MTM反熔絲結(jié)構(gòu)應(yīng)用于存儲單元的結(jié)構(gòu)如圖1所示:編程前反熔絲結(jié)構(gòu)(AF1和AF2)處于高阻狀態(tài),電阻值為幾百MΩ,存儲單元讀出數(shù)據(jù)為0;編程后反熔絲結(jié)構(gòu)(AF1和AF2)處于導(dǎo)通狀態(tài),電阻值為幾十Ω,存儲單元讀出數(shù)據(jù)為1。
MTM反熔絲單元編程時,通過在上下金屬極板間加偏置電壓使得反熔絲介質(zhì)中產(chǎn)生極細(xì)通道的電流,在一定時間之后,電流在高阻下產(chǎn)生的熱量使得反熔絲介質(zhì)與金屬發(fā)生反應(yīng)生成低阻的金屬硅化物,導(dǎo)致MTM反熔絲單元最終導(dǎo)通,因此,編程后單元由高阻變?yōu)榈妥鑋8]。MTM反熔絲結(jié)構(gòu)在編程前后的截面SEM如圖2所示,可以看出編程后在反熔絲結(jié)構(gòu)的上下電極之間形成了物理連接。
圖2 MTM反熔絲編程前后結(jié)構(gòu)SEM圖比對
未編程的反熔絲元件的可靠性主要取決于反熔絲介質(zhì)高阻態(tài)的穩(wěn)定性,編程后其可靠性主要取決于編程形成的導(dǎo)電通路的穩(wěn)定性。因此,對MTM反熔絲結(jié)構(gòu)的可靠性進(jìn)行評估時需要分別對未編程和編程后的2種狀態(tài)進(jìn)行評價。
評價過程如下:首先進(jìn)行常態(tài)測試篩選;然后選擇加速應(yīng)力條件進(jìn)行應(yīng)力循環(huán)試驗并展開中間測試,測試過程中記錄參數(shù)變化數(shù)據(jù);根據(jù)數(shù)據(jù)進(jìn)行失效判斷,若沒有失效則繼續(xù)增加應(yīng)力時間重復(fù)此項試驗直至發(fā)生失效;單元失效時停止試驗并記錄該應(yīng)力下數(shù)值;結(jié)合未編程和編程后2種狀態(tài)下的失效數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計分析可以得到工作條件下單元的壽命預(yù)估。具體的可靠性評估流程如圖3所示。其中,對未編程和編程后2種狀態(tài)評估的不同之處在于選擇的加速應(yīng)力條件不同,未編程單元的加速應(yīng)力條件為電壓和溫度,編程后單元的加速應(yīng)力條件為電流和溫度。
圖3 MTM反熔絲單元可靠性評估流程
未編程反熔絲介質(zhì)失效的應(yīng)力加速因子包括電場應(yīng)力和環(huán)境溫度應(yīng)力。介質(zhì)穩(wěn)定性壽命與電場加速應(yīng)力的關(guān)系符合E或1/E模型,與溫度加速應(yīng)力的關(guān)系符合熱激活能指數(shù)關(guān)系。因此,未編程反熔絲結(jié)構(gòu)的可靠性可用失效時間(Time-To-Failure, TTF)表示為[9]:
E模型
TTF=exp(-)exp(a/B); (1)
或1/E模型
TTF=exp(/)exp(a/B)。 (2)
其中:為常數(shù);和為電場系數(shù);a為材料熱激活能;B為玻耳茲曼常數(shù)。模型前部反映電場加速效應(yīng),后部反映溫度加速效應(yīng)??梢苑謩e通過電壓和溫度加速壽命試驗確定模型參數(shù)、和a。
E模型和1/E模型均能在一定電場強(qiáng)度范圍內(nèi)較好地擬合實驗數(shù)據(jù),E模型考慮了介質(zhì)擊穿過程中電場的作用,在低電場范圍對實驗數(shù)據(jù)擬合較好,模型簡單、物理機(jī)制明確,但是忽略了介質(zhì)層中載流子對缺陷的產(chǎn)生和擊穿的影響;而高電場下隧穿電流成分明顯,隧穿電流與電場1/相關(guān),因此,與E模型相反,1/E模型在高電場范圍對實驗數(shù)據(jù)擬合較好??梢姡瑢Ψ慈劢z單元進(jìn)行評估時采用E模型還是1/E模型,與反熔絲單元工作時的電場有關(guān),一般如果無法區(qū)分是高電場還是低電場,則對2種模型都進(jìn)行評估。
以某型號MTM反熔絲型存儲器存儲單元的可靠性評估為例,在MTM反熔絲上下極板間分別施加5.0、5.2和5.4V的加速電應(yīng)力,在不同的加速應(yīng)力施加時間下,分別讀取受測試單元在1.98、2.75、3.0、3.3和3.63V電壓下的漏電流,結(jié)果如圖4所示。
以漏電流leak@3.3V≥50nA為失效判據(jù),將上述測試結(jié)果進(jìn)行擬合得到威布爾分布。當(dāng)讀取電壓為3.3V時,不同加速電應(yīng)力條件下,反熔絲單元的失效概率如圖5所示。
圖5 未編程反熔絲單元在各加速電應(yīng)力條件下的失效概率
根據(jù)上述試驗結(jié)果,選取中值壽命點,擬合得到式(1)和式(2)中的參數(shù)和分別為2.253和60.8441。計算得到反熔絲單元的壽命隨電應(yīng)力的變化關(guān)系如圖6所示,當(dāng)工作電壓為3.3V時,常溫下反熔絲單元的壽命均大于20年。
圖6 未編程反熔絲單元的失效時間擬合
編程后反熔絲單元的失效由施加的電流應(yīng)力引起,失效機(jī)制包括:電遷移失效機(jī)制和熱激活能相關(guān)的材料退化機(jī)制。編程后反熔絲壽命模型,即失效時間與加速電流應(yīng)力和環(huán)境溫度符合以下關(guān)系[10]:
其中:s為加速應(yīng)力電流;為電遷移Black方程電流密度指數(shù),一般取值為2;a為環(huán)境溫度;co為編程過程中的反應(yīng)溫度;p為反熔絲編程電流。模型前半部分反映的是電遷移退化失效機(jī)制,后半部分反映的是與熱激活能相關(guān)的材料退化機(jī)制。
以電阻增大超過10%為失效判據(jù),各加速電流應(yīng)力條件下失效時間結(jié)果分布如圖7所示,根據(jù)上述壽命模型擬合的結(jié)果如圖8所示。
根據(jù)試驗結(jié)果,編程后反熔絲壽命是應(yīng)力電流與編程電流比值(s/p)的函數(shù),即在固定編程電流條件下,編程后反熔絲壽命與工作應(yīng)力電流密切相關(guān)。對于上述10mA編程的反熔絲:在滿足10年壽命的要求下,反熔絲的安全工作電流需控制在6.0mA(60%p)以內(nèi);在5mA(p/2)工作電流條件下,編程后反熔絲壽命遠(yuǎn)大于100年。
圖7 編程后反熔絲失效概率(編程電流Ip=10mA)
圖8 編程后反熔絲失效時間擬合(編程電流Ip=10mA)
因此,某型號MTM反熔絲型存儲器的存儲單元在編程前和編程后都具有很高的可靠性。
航天電子元器件面臨著復(fù)雜而嚴(yán)苛的輻射環(huán)境;對空間環(huán)境敏感的微電子器件會產(chǎn)生輻射效應(yīng),造成器件的性能變差、功能失效甚至燒毀??臻g輻射效應(yīng)主要分為電離總劑量效應(yīng)和單粒子效應(yīng)。本文以某型號的MTM反熔絲型PROM器件為例,分別評估了MTM反熔絲單元的抗電離總劑量效應(yīng)能力和抗單粒子效應(yīng)能力。
待評估器件采用0.18μm的MTM反熔絲單多晶六鋁CMOS工藝。按照標(biāo)準(zhǔn),選取輻射源為60Coγ射線源,劑量率為50rad(Si)/s[11]。選取同批次22只樣品進(jìn)行總劑量試驗。試驗過程中器件地址端口經(jīng)電阻上拉至DD,數(shù)據(jù)端口懸空,電源端口接額定電壓,各使能端經(jīng)電阻下拉至GND。
在輻照至100krad(Si)時,對器件進(jìn)行測試,其中典型器件的主要性能參數(shù)對比見表1。
表1 MTM反熔絲單元輻照前后電特性參數(shù)比較
從表1中可以看出,輻照至100krad(Si),器件的電性能參數(shù)相對于輻照前變化很小,均在規(guī)范允許值范圍內(nèi),器件功能性能合格。根據(jù)該器件CMOS工藝具有退火效應(yīng)的特點,對器件繼續(xù)進(jìn)行輻照至150krad(Si)后進(jìn)行加速退火試驗,試驗溫度100℃,試驗時間為168h。然后對器件進(jìn)行電參數(shù)測試。經(jīng)測試所有器件電參數(shù)仍然合格,證明MTM反熔絲結(jié)構(gòu)的抗電離總劑量能力超過100krad(Si)。
根據(jù)待評估器件的功能特點,試驗檢測其抗單粒子鎖定和單粒子翻轉(zhuǎn)的能力。試驗時,選取的粒子分別為HI-13串列靜電加速器上的Ge離子和HIRFL回旋加速器的Bi離子;LET值分別為37.0和99.8MeV·cm2/mg;在硅中的射程分別為32.8和93.5μm。
4.2.1 抗單粒子鎖定
單粒子鎖定測試流程如圖9所示。對被測器件進(jìn)行單粒子鎖定測試時,電源電壓為額定電壓正向拉偏10%。通過數(shù)字多用表以及程控電源實時監(jiān)測電源電流并保存。器件的工作電流突然大于設(shè)定值(如正常工作電流的1.5倍),并且器件功能異常時,認(rèn)為器件發(fā)生單粒子鎖定。當(dāng)輻照總注量達(dá)到1.00×107cm-2或發(fā)生1次單粒子鎖定時,停止試驗。
采用LET值為99.8MeV·cm2/mg的Bi離子輻照器件,在輻照至1.00×107cm-2注量的過程中未發(fā)生單粒子鎖定效應(yīng),表明該器件抗單粒子鎖定的LET閾值大于99.8MeV·cm2/mg。
圖9 單粒子鎖定測試流程
4.2.2 抗單粒子翻轉(zhuǎn)
對被測器件進(jìn)行單粒子效應(yīng)測試時,測試系統(tǒng)主要是向被測器件提供運行程序,使其處在工作狀態(tài),同時還能監(jiān)測被測器件對單粒子翻轉(zhuǎn)的敏感性。單粒子翻轉(zhuǎn)測試時,電源電壓為額定電壓負(fù)向拉偏10%。
單粒子翻轉(zhuǎn)測試流程如圖10所示。測試過程中被測器件由程控電源單獨供電,通過選擇輻照器件來控制被測器件工作電源的通斷。在試驗過程中,首先向被測器件寫入測試圖形碼;然后在器件最大工作頻率條件下讀取各測試單元中的數(shù)據(jù),并與填充碼比較,發(fā)現(xiàn)錯誤后再次讀取該測試單元中數(shù)據(jù),2次均錯誤則判斷是存儲單元發(fā)生翻轉(zhuǎn)(單粒子翻轉(zhuǎn)),否則判斷是外圍電路翻轉(zhuǎn),分別統(tǒng)計本周期內(nèi)單粒子翻轉(zhuǎn)數(shù)、本周期內(nèi)外圍電路翻轉(zhuǎn)數(shù)、總的單粒子翻轉(zhuǎn)數(shù)和總的外圍電路翻轉(zhuǎn)數(shù),將錯誤數(shù)計數(shù)通過串口發(fā)回上位機(jī),并將發(fā)生翻轉(zhuǎn)的存儲單元位修改為填充碼。若單粒子翻轉(zhuǎn)總數(shù)達(dá)到100個(或規(guī)定值)或離子總注量達(dá)到107cm-2(以先到者為準(zhǔn))時,則停止輻照,試驗結(jié)束。
圖10 單粒子翻轉(zhuǎn)測試流程
在輻照至1.00×107cm-2注量的過程中,3只樣品共檢測到44次單粒子翻轉(zhuǎn)效應(yīng),表明該器件抗單粒子翻轉(zhuǎn)的LET閾值小于99.8MeV·cm2/mg;對輻照后的樣品進(jìn)行了單粒子翻轉(zhuǎn)復(fù)測,未檢測到器件單粒子翻轉(zhuǎn)數(shù)據(jù),表明該器件反熔絲單元抗單粒子翻轉(zhuǎn)的LET閾值大于99.8MeV·cm2/mg。采用LET為37.2MeV·cm2/mg的Ge離子輻照器件,在輻照至1.00×107cm-2注量的過程中未發(fā)生單粒子翻轉(zhuǎn)效應(yīng),表明該器件外圍電路抗單粒子翻轉(zhuǎn)的LET閾值大于37.2MeV·cm2/mg。
本文系統(tǒng)分析了MTM反熔絲結(jié)構(gòu)的可靠性以及抗輻射能力,該結(jié)構(gòu)編程前后均具有較高可靠性。某型號的MTM反熔絲單元編程前常溫下壽命滿足20年使用要求,編程后若工作電流控制在編程電流的50%以內(nèi),可實現(xiàn)大于100年的使用壽命。器件抗電離總劑量能力大于100krad(Si),抗單粒子鎖定的LET閾值大于99.8MeV·cm2/mg;器件反熔絲單元抗單粒子翻轉(zhuǎn)的LET閾值大于99.8MeV·cm2/mg。以上證明該結(jié)構(gòu)滿足空間環(huán)境應(yīng)用需求,MTM反熔絲工藝的器件應(yīng)用于航天器具有較高的可靠性和較好的空間環(huán)境適應(yīng)性。
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(編輯:馮露漪)
Applicability evaluation of MTM anti-fuse programmable units for aerospace applications
WANG Ya’nan1, WANG Wenyan1, LI Pengwei1, MEI Bo1, HONG Genshen2
(1. China Aerospace Components Engineering Center, Beijing 100094, China; 2. No.58 Research Institute, China Electronics Technology Group Corporation, Wuxi 214072, China)
Based on the space environmental requirements and the characteristics of MTM anti-fuse devices, this paper analyzes the performance of MTM anti-fuse programmable units in aerospace applications. A reliability evaluation method for MTM anti-fuse units is proposed, and the reliability of the units before and after programing is evaluated. The applicability of the MTM anti-fuse process in the space environment is verified by TID and SEE tests. It is shown that the MTM anti-fuse process can meet the requirements in the space environment, and the MTM anti-fuse device is of high reliability and good adaptability to the environment in spacecraft applications.
MTM; anti-fuse device; aerospace application; reliability evaluation; space environmental adaptibility
TN453
A
1673-1379(2017)06-0672-07
10.3969/j.issn.1673-1379.2017.06.017
王亞男(1986—),女,博士學(xué)位,主要從事半導(dǎo)體器件設(shè)計制作及應(yīng)用驗證。E-mail: wyn.wgn@163.com。
2017-09-29;
2017-12-01