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      菱形二氧化鈰的水熱合成及發(fā)光機(jī)理研究

      2020-06-12 09:23:48李向果姚會敏
      無機(jī)鹽工業(yè) 2020年6期
      關(guān)鍵詞:晶胞參數(shù)水熱法空位

      李向果,郭 淼,姚會敏,呂 靜

      (1.河南質(zhì)量工程職業(yè)學(xué)院食品與化工系,河南平頂山467000;2.廣西師范大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院)

      隨著家居市場需求的不斷擴(kuò)大, 發(fā)光材料在智能照明系統(tǒng)領(lǐng)域的應(yīng)用需求也在逐年增加。 二氧化鈰(CeO2)是一種重要的稀土氧化物發(fā)光材料,在LED 照明系統(tǒng)、光電子器件、智能傳感器、紫外屏蔽劑、燃料電池、催化劑、拋光材料等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用[1-6]。 尤其是CeO2中的Ce 離子同時存在+4 和+3 兩種價態(tài),當(dāng)兩種價態(tài)相互轉(zhuǎn)換時,該材料具有很強(qiáng)的儲氧功能[7],這一功能將導(dǎo)致CeO2具有高效的發(fā)光性能。不同的制備方法導(dǎo)致CeO2發(fā)光材料的微結(jié)構(gòu)、表面形貌、缺陷態(tài)等不同,從而影響材料的光學(xué)性質(zhì)和其他物理化學(xué)性質(zhì)[8]。 因此,制備高儲氧功能的CeO2稀土氧化物發(fā)光材料成為了一大挑戰(zhàn)。

      目前,合成CeO2發(fā)光材料的方法較多,包括溶劑熱法[9]、陽極氧化鋁模板法[10]、草酸 沉淀法[11]、蛋清蛋白輔助水熱法[12]、沉淀滴定法[13]、真空熱蒸鍍法[8]、表面活性劑輔助水熱法[14]、絡(luò)合劑輔助水熱法[15]、反相微乳液法[16]等。 在上述合成方法中,水熱法是一種優(yōu)異的制備方法, 尤其在制備不同形貌如八面體狀、棒狀、花狀、蝴蝶狀、空心球狀等方面具有很大的優(yōu)勢,僅需引入礦化劑、表面活性劑、絡(luò)合劑等原材料即可改善CeO2發(fā)光材料的形貌[14-15]。 然而,這些方法在前驅(qū)體溶液中引入了其他試劑,對CeO2發(fā)光材料的相純度和性能都會產(chǎn)生不同程度的影響。 但是,不使用任何礦化劑、絡(luò)合劑以及表面活性劑合成CeO2發(fā)光材料的簡單水熱合成法尚未見報道。 因此,采用簡單一步水熱合成法合成CeO2發(fā)光材料并研究它的光學(xué)、發(fā)光性能具有重要意義。

      筆者采用簡單的一步水熱法合成CeO2發(fā)光材料,基于X 射線衍射儀(XRD)和X 射線光電子能譜儀(XPS)研究它的氧空位濃度以及吸附氧,建立晶胞結(jié)構(gòu)。 通過掃描電鏡觀察制備的發(fā)光材料的形貌,研究掃描電鏡(SEM)觀察結(jié)果與XRD 計算結(jié)果的一致性。 采用紫外可見分光光度計和熒光分光光度計研究CeO2發(fā)光材料的光學(xué)和發(fā)光性質(zhì)。 根據(jù)熒光發(fā)射譜,利用色度軟件分析其色度坐標(biāo)?;趯嶒灲Y(jié)果和理論分析,研究CeO2發(fā)光材料的發(fā)光機(jī)理。

      1 實驗部分

      1.1 材料的合成

      采用一種簡單的水熱合成法制備菱形CeO2發(fā)光材料。 按照一定的化學(xué)劑量比稱取六水合硝酸鈰配制成水溶液,在充分溶解后除去不溶物,得到無色透明的Ce(NO3)3·6H2O 溶液。 用硝酸或氨水調(diào)節(jié)溶液的酸堿度為6。 量取上述溶液80 mL 置于聚四氟乙烯內(nèi)襯的反應(yīng)釜中, 將反應(yīng)釜移入干燥箱中,在250 ℃保溫12 h。 升溫、降溫速率均為10 ℃/min。 待冷卻至室溫后,將反應(yīng)產(chǎn)物轉(zhuǎn)移至燒杯中靜置24 h,去除上層清液,用適量硝酸清洗數(shù)次,再用高純酒精清洗兩次,然后置于干燥箱中在135 ℃干燥12 h,獲得菱形CeO2發(fā)光材料。

      1.2 材料表征

      采用DX-2700 型X 射線衍射儀對菱形CeO2發(fā)光材料的物相結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析;采用Materials Studio 4.0 軟件構(gòu)建CeO2晶胞;采用JSM-7600F 型掃描電鏡觀察菱形CeO2發(fā)光材料的表面形貌;采用XSAM 800 型X 射線光電子能譜儀測量CeO2發(fā)光材料的光電子能譜;采用UV-2500 型紫外可見分光光度計測試CeO2發(fā)光材料的紫外可見漫反射光譜;采用RF-5301PC 型熒光分光光度計記錄菱形CeO2發(fā)光材料的激發(fā)光譜和發(fā)射光譜,測量范圍為200~800 nm,光源為200 W 氙燈。

      2 結(jié)果與討論

      2.1 相結(jié)構(gòu)分析

      圖1 為水熱法合成CeO2的XRD 譜圖。 從圖1看出,在2θ 為28.915、33.106、47.489、56.718、59.109°處可以觀察到5 個明顯的衍射峰, 對應(yīng)的晶面指數(shù)分別為(111)(200)(220)(311)(222)。全部的衍射峰屬于立方相CeO2,空間群為Fm-3m(225),標(biāo)準(zhǔn)卡號為JCPDS No.34-0394。 利用MDI Jade 6 軟件對其進(jìn)行結(jié)構(gòu)精修,R=13.45%,表明模擬結(jié)果可信,實驗結(jié)果與擬合的結(jié)果基本一致。 根據(jù)謝樂公式(1),挑選XRD 譜線中的4 個強(qiáng)峰, 相關(guān)參數(shù)見表1, 計算CeO2平均晶粒尺寸為10.962 nm。

      式中:D為晶粒尺寸;k為謝樂常數(shù);λ 為入射X 射線波長;β 為衍射角半高寬;θ 為衍射角。

      通過公式(2),可計算出CeO2晶胞參數(shù)a。 經(jīng)計算,其晶胞參數(shù)為0.536 76 nm,結(jié)果見表1。

      式中:d為晶面間距;(h、k、l) 為晶面指數(shù);a為晶胞參數(shù)。

      為研究樣品中的氧空位濃度,通過公式(3)[17]和(4)[17]可計算出CeO2的氧空位濃度,見表1。

      式中:a為CeO2樣品的晶胞參數(shù);a0為塊體CeO2樣品的晶胞參數(shù),0.541 134 nm;c為氧空位濃度系數(shù);rCe3+為Ce3+的離子半徑,取值0.128 3 nm;rCe4+為Ce4+的離子半徑,取值0.109 8 nm;根據(jù)文獻(xiàn)[17],為氧空位半徑, 取值0.138 nm,rO2-為O2-離子半徑, 取值0.124 nm。

      圖1 水熱法合成CeO2 的XRD 譜圖

      Zhou 等[18]合成了納米尺寸的CeO2單晶,其氧空位濃度為4×1020cm-3。Choudhury 等[17]采用濕化學(xué)法合成了CeO2納米顆粒,經(jīng)不同溫度燒結(jié),其氧空位濃度隨著燒結(jié)溫度的升高而減少, 其最佳氧空位濃度接近5×1020cm-3。 Gao 等[19]采用輻照輔助聚丙烯酰胺凝膠法合成了CeO2納米顆粒,觀察到了一個相反的現(xiàn)象, 即氧空位濃度隨著燒結(jié)溫度的升高而增加,其氧空位濃度介于(1.27~3.96)×1020cm-3。 在本實驗中,采用水熱法合成的CeO2樣品的平均氧空位濃度為1.723 7×1020cm-3。 根據(jù)Choudhury 等[17]和Gao等[19]的結(jié)論可知,高的氧空位濃度可能導(dǎo)致高的光催化活性;氧空位濃度相對較低,其發(fā)光性能較強(qiáng)。本實驗中,CeO2樣品的氧空位濃度居于兩篇文獻(xiàn)獲得的最佳氧空位濃度之間,可能展示極好的發(fā)光性能。

      表1 XRD 譜圖分析獲得的晶粒尺寸、晶胞參數(shù)和氧空位濃度

      基于MDI Jade 6 軟件結(jié)構(gòu)精修和理論計算的結(jié)果, 利用Materials Studio 4.0 軟件可獲得CeO2晶體結(jié)構(gòu)圖。 CeO2是一種具有螢石結(jié)構(gòu)的立方相晶體, 該結(jié)構(gòu)的晶體主要由面心立方晶胞的陽離子和占據(jù)八面體空間的陰離子組成,見圖2。 從圖2 看出,每個Ce 離子與O 離子的8 個最近鄰位置配位,每個O 離子與最近的4 個Ce 離子配位。

      圖2 水熱法合成CeO2 晶體結(jié)構(gòu)圖

      2.2 表面形貌和電子衍射分析

      圖3 為水熱法合成CeO2的SEM 照片。從圖3 看出, 該樣品主要由菱形的大顆粒和一些晶粒尚未長大的小顆粒組成。 大的菱形顆粒的直徑超過200 nm,這一結(jié)果與XRD 計算的結(jié)果有所不同。 盡管如此,卻與XRD 獲得的結(jié)果不矛盾。 其一,XRD 計算的是晶粒,而SEM 觀察到的是顆粒,而顆粒是由許多小晶粒組成;其二,在采用謝樂公式對晶粒進(jìn)行計算的過程中,是將所獲得樣品近似為球形顆粒計算的,故結(jié)果出現(xiàn)較大偏差。

      圖3 水熱法合成CeO2 的SEM 照片

      由于結(jié)晶度會對CeO2衍射峰半峰寬產(chǎn)生影響,因此通過選區(qū)電子衍射(SAED)檢驗了CeO2結(jié)晶度。圖4 為水熱法合成CeO2的SAED 圖。 從圖4 看出,電子衍射圖包含5 個明顯的衍射環(huán)。 經(jīng)Digital Micrograph 軟件作圖可知, 晶面間距為0.311 99、0.270 49、0.192 01、0.162 98、0.119 99、0.103 98 nm,對應(yīng)的晶面指數(shù)分別為(111)(200)(220)(311)(420)(511)。經(jīng)分析表明,采用水熱法合成的CeO2具有較好的結(jié)晶度。

      圖4 水熱法合成CeO2 的SAED 圖

      2.3 XPS 表征

      為研究CeO2的化學(xué)組分、電子能級、分子結(jié)構(gòu)和表面缺陷, 采用X 射線光電子能譜儀獲得了其XPS 圖。圖5a 為CeO2的Ce 分譜。用U 和V 分別表示3d5/2和3d3/2的自旋軌道耦合。 4 個主要3d5/2特征峰 在885.3、888.9、891.4、901.3 eV 分 別 對 應(yīng) 于V、V′、V′′、V′′′組分;在902.5、905.3、908.6、918.5 eV 的3d3/2特 征 峰 分 別 對 應(yīng) 于U、U′、U′′、U′′′組 分。Watanabe 等[20]研究認(rèn)為,V、V′、V′′、V′′′4 個峰分別可分配給CeⅣ(3d94f2)O(2p4)、CeⅢ(3d94f1)O(2p6)、CeⅣ(3d94f1)O(2p5)、CeⅣ(3d94f0)O(2p6);相應(yīng)的U結(jié)構(gòu)的4 個峰與V 結(jié)構(gòu)的峰對應(yīng)。 圖5b 為CeO2的O 分譜。 通過分峰處理可將譜線分為兩個特征峰,分別為528.98 eV 和530.52 eV。 其中,528.98 eV 的峰對應(yīng)于Ce—O 峰, 而530.52 eV 的峰對應(yīng)于吸附氧的峰[21]。 吸附氧的峰越強(qiáng),表明其熒光發(fā)射性能越好。結(jié)合XRD 結(jié)果的氧空位計算和XPS 氧分譜的分析可知,采用水熱法合成的菱形CeO2具有較強(qiáng)的發(fā)光性能。

      圖5 水熱法合成CeO2 的XPS 圖

      2.4 光學(xué)性質(zhì)

      紫外可見漫反射光譜可用于分析制備材料的光學(xué)性質(zhì), 圖6a 為水熱法合成CeO2的紫外可見漫反射光譜圖。 從圖6a 看出, 在200~220 nm 波長范圍內(nèi),反射率隨著波長的增加而逐漸減?。辉?20~350 nm 波長范圍內(nèi),反射率隨著波長的增加略有增加;在350~550 nm 波長范圍內(nèi),反射率隨著波長的增加而急劇增加;隨后,波長繼續(xù)增加,反射率基本保持不變。 根據(jù)K-M 公式(5),可獲得CeO2的紫外可見吸收光譜圖,見圖6b。

      式中:R為反射率;α 為吸收系數(shù);S為散射系數(shù)。 從圖6b 看出,兩個明顯的吸收峰在285 nm 和330 nm能被觀察到。 該結(jié)果表明,CeO2具有很強(qiáng)的紫外吸收能力。 而且吸收一直延伸到500 nm 左右,表明其還具有一定的可見光吸收能力??梢姡摌悠肪哂休^強(qiáng)的光催化活性?;谧贤饪梢娢展庾V,可通過公式(6)計算出CeO2樣品的光學(xué)帶隙(Eg)值。

      式中:α 為吸收系數(shù);h為普朗克常數(shù);n為頻率;A為一個常數(shù);n取1/2。 圖6c 為(αhν)1/2與hν 的關(guān)系曲線圖。將曲線斜率最陡處外延至與橫坐標(biāo)的交點,其交點值即為樣品的Eg值。 由圖6c 可知,水熱法合成的CeO2樣品的Eg為3.19 eV。 Ramasamy 等[22]采用化學(xué)沉淀法合成了CeO2納米顆粒, 其Eg值比本實驗獲得的Eg值大,約為3.5 eV。Selvi 等[23]發(fā)現(xiàn),采用共沉淀法合成的CeO2納米顆粒的Eg值比采用化學(xué)沉 淀 法 合 成 的Eg值 更 大。 Hosseini 等[24]采 用 微 波輔助燃燒法合成了CeO2納米顆粒,其Eg值約為3.26 eV。 由此可知,采用不同的方法合成同一種物質(zhì)其Eg值均不同,表明CeO2樣品的Eg值強(qiáng)烈依賴于合成路徑。

      圖6 水熱法合成CeO2 的紫外可見漫反射光譜(a)、紫外可見吸收譜(b)、(αhν)1/2 與hν 的關(guān)系(c)圖

      2.5 發(fā)光性質(zhì)

      圖7 水熱法合成CeO2 的激發(fā)譜(a)、發(fā)射譜(b、c)、激發(fā)波長隨發(fā)射強(qiáng)度的變化曲線(d)

      為研究水熱法合成CeO2的發(fā)光性質(zhì), 圖7a 給出了CeO2的激發(fā)光譜圖(發(fā)射波長為460 nm)。 從圖7a 看到兩個明顯的激發(fā)峰在202 nm 和325 nm。 圖7b 顯示了CeO2的發(fā)射光譜圖(激發(fā)波長為202 nm)。在350~700 nm 波長范圍內(nèi),CeO2展示了一個寬的發(fā)射帶?;诟咚箶M合可將其分為4 個發(fā)射峰,分別位于460、470、540、580 nm。 在325 nm 波長激發(fā)下,其發(fā)射峰為460 nm,見圖7c。與圖7b 相比,圖7c 發(fā)射峰的強(qiáng)度較弱, 這一結(jié)果與激發(fā)譜中觀察到的現(xiàn)象一致。為研究不同激發(fā)波長對樣品發(fā)射強(qiáng)度、峰位置等的影響, 采用不同激發(fā)波長激發(fā)獲得了樣品的發(fā)射峰。發(fā)射峰的位置幾乎沒有變化,然而其發(fā)射強(qiáng)度發(fā)生了明顯變化,結(jié)果見圖7d。 從圖7d 看出,隨著激發(fā)波長的增加,其發(fā)射強(qiáng)度不斷減小,表明樣品最佳的激發(fā)波長為202 nm。 除了光學(xué)性質(zhì)強(qiáng)烈依賴于合成路徑, 發(fā)光性質(zhì)也表現(xiàn)出強(qiáng)烈依賴于制備方法和材料的維度。Gong 等[25]合成了一維桿狀和三維蓮花狀CeO2氧化物, 其發(fā)射帶分布在380~650 nm的寬范圍內(nèi)。 當(dāng)采用溫和的水熱法合成立方相的CeO2時,其在452 nm 和470 nm 展示了兩個明顯的發(fā)射峰[26]。 另外,Meng 等[27]采用水熱法合成了微結(jié)構(gòu)的CeO2,展現(xiàn)了468 nm 和562 nm 兩個明顯的發(fā)射峰。 Phokha 等[28]采用一個簡單的濕化學(xué)法合成了CeO2納米顆粒,由于表面缺陷的作用,其在483 nm出現(xiàn)了一個弱的藍(lán)綠光發(fā)射。 Choudhury 等[17]采用簡單的溶液法合成了CeO2納米顆粒,從紫外到可見展示了一個寬的發(fā)射帶。 Kumar 等[29]采用一步水熱法合成了CeO2納米顆粒,出現(xiàn)了藍(lán)色、綠色和黃色3個強(qiáng)的發(fā)射帶。 Murugan 等[30]采用射頻濺射法制備了CeO2薄膜,觀察到了兩個紫外發(fā)射峰、一個淡紫色發(fā)射峰和兩個綠色發(fā)射峰。一般地,380~500 nm發(fā)射帶可歸因于不同缺陷能級到CeO2價帶間的轉(zhuǎn)變,500 ~675 nm 發(fā)射帶能被歸因于晶體中的氧空位[25]。為進(jìn)一步闡述各發(fā)射峰產(chǎn)生的原因,將在發(fā)光機(jī)理部分對其進(jìn)行詳細(xì)分析。

      基于GoCIE 色度軟件,可研究水熱法合成CeO2的顯色性和色度坐標(biāo)。 將獲得的發(fā)射譜調(diào)入GoCIE色度軟件, 獲得相應(yīng)的色度坐標(biāo), 其色度坐標(biāo)值為(0.188,0.243),結(jié)果見圖8。 由此可見,樣品的發(fā)光顏色趨向于藍(lán)綠色, 可將其作為一種藍(lán)綠色發(fā)光材料的候選材料。

      圖8 水熱法合成CeO2 的色度圖

      2.6 發(fā)光機(jī)理

      為進(jìn)一步理解水熱法合成CeO2的發(fā)光機(jī)理,圖9 提出了一個可能的解釋機(jī)理。O2p和Ce4f分別組成了CeO2的價帶和導(dǎo)帶, 當(dāng)激發(fā)光照射到CeO2發(fā)光材料上,電子在價帶被激發(fā)躍遷到導(dǎo)帶上,在價帶留下空穴。 由于激發(fā)光能量大于Eg值,因此躍遷到導(dǎo)帶的電子會通過振動馳豫下降到更低的能級。 在CeO2發(fā)光材料中,由于F++心的存在,通過振動馳豫下降到更低能級的電子會繼續(xù)下降, 與Ce4f上的空穴發(fā)生復(fù)合,并產(chǎn)生發(fā)光現(xiàn)象。對于CeO2發(fā)光材料,其發(fā)射峰能量需大于2.6 eV 才能產(chǎn)生這一現(xiàn)象[30]。 因此,低波長的兩個發(fā)射峰在460 nm 和470 nm 應(yīng)歸因于這一發(fā)射。 由于樣品中存在大量的氧空位,電子可繼續(xù)下降到氧空位所占據(jù)的能級,進(jìn)一步下降到價帶與空穴進(jìn)行復(fù)合, 從而產(chǎn)生發(fā)光現(xiàn)象,發(fā)射峰的能量介于2.2~2.6 eV 之間[31],540 nm的熒光發(fā)射即由氧空位所引起。 同時,由于F0*心的存在,電子會在該能級短暫停留,并繼續(xù)下降到F0心能級與空穴復(fù)合,釋放的能量以光的形式發(fā)出,其發(fā)射峰能量位于2.1~2.2 eV之間[30],本實驗中580 nm 的熒光發(fā)射即屬于這一發(fā)射。

      圖9 水熱法合成CeO2 的發(fā)光機(jī)理

      3 結(jié)論

      通過水熱法制備了存在大量氧空位或吸附氧的CeO2發(fā)光材料, 經(jīng)計算其晶胞參數(shù)為0.536 76 nm,氧空位濃度為1.723 7×1020cm-3。 紫外可見吸收光譜顯示其在400 nm 以下具有強(qiáng)的光吸收能力,計算其Eg值為3.19 eV, 是一種強(qiáng)的紫外光光催化候選材料。 經(jīng)202 nm 的光激發(fā),熒光發(fā)射光譜出現(xiàn)了460、470、540、580 nm 4 個熒光發(fā)射峰, 色度坐標(biāo)值為(0.188,0.243)。 經(jīng)發(fā)光機(jī)理分析,CeO2發(fā)光材料中存在的F++心、 氧空位和F0*心在發(fā)光方面扮演了重要角色。

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