李雪方, 賈宇龍, 郭 衛(wèi)
(山西潞安太陽能科技有限責(zé)任公司,山西 長治 046000)
目前,P型PERC電池將仍是光伏行業(yè)發(fā)展的主流趨勢。相對各企業(yè)來說,高效PERC電池生產(chǎn)設(shè)備的采購需要大量資金,而多晶市場逐漸退出市場,在多晶設(shè)備的基礎(chǔ)上改造同樣需要大量資金。對部分企業(yè)來說,如何尋求最優(yōu)的發(fā)展生存路線是關(guān)鍵,準(zhǔn)單晶也是一個研究方向。單晶硅是通過直拉法制得,制得的單晶硅片每片只有一個晶粒,具有低缺陷和高的轉(zhuǎn)換效率,但成本高、產(chǎn)量小。而多晶硅片往往含有大量的晶界及缺陷,轉(zhuǎn)換效率較低[1]。準(zhǔn)單晶[2]是基于多晶鑄錠的工藝,在長晶時通過部分使用單晶籽晶,獲得外觀和電性能均類似單晶的多晶片。相較于多晶,準(zhǔn)單晶硅片晶界少,位錯密度低;相較于單晶,準(zhǔn)單晶的光致衰減低約1/4~1/2。準(zhǔn)單晶最早是在2006年由BP solar公司研究成功,該公司生產(chǎn)的Mono2TM產(chǎn)品轉(zhuǎn)換效率達(dá)到18%,接近于單晶效率。2007年生產(chǎn)出準(zhǔn)單晶太陽能電池組件,并進(jìn)行了可靠性測試。
本文將利用現(xiàn)有的多晶和普通單晶電池片生產(chǎn)工藝設(shè)備,設(shè)計不同實驗流程,以此來獲得適合準(zhǔn)單晶電池片的生產(chǎn)工藝。
本文主要設(shè)計以下4種生產(chǎn)工藝流程,即4組實驗。
A:制絨工藝采用單晶堿制絨工藝,剩下工藝采用普通多晶的生產(chǎn)工藝。即:單晶制絨→多晶擴(kuò)散→多晶切邊→多晶PECVD→多晶絲網(wǎng)印刷。
B:制絨工藝采用單晶堿制絨工藝,剩下工藝采用普通多晶的生產(chǎn)工藝,并增加熱氧工藝。即:單晶制絨→多晶擴(kuò)散→多晶切邊→多晶熱氧→多晶PECVD→多晶絲網(wǎng)印刷。
C:制絨工藝采用單晶堿制絨工藝,絲網(wǎng)前采用普通單晶工藝路線,絲網(wǎng)采用多晶絲網(wǎng)印刷。即:單晶制絨→單晶低壓擴(kuò)散→單晶酸拋→單晶熱氧→單晶正PECVD→多晶絲網(wǎng)印刷。
D:準(zhǔn)單晶電池片使用普通單晶生產(chǎn)工藝,絲網(wǎng)網(wǎng)版均用的是多晶的生產(chǎn)網(wǎng)版,正銀漿料為單晶正銀漿料,背銀和背場均為多晶漿料。即:單晶制絨→單晶低壓擴(kuò)散→單晶酸拋→單晶熱氧→單晶正PECVD→單晶絲網(wǎng)印刷。
實驗各組工藝參數(shù)如表1 所示,電性能參數(shù)如第17頁表2所示。
從4組實驗的電學(xué)參數(shù)可以看出,準(zhǔn)單晶電池片的轉(zhuǎn)換效率比當(dāng)時批量生產(chǎn)的金剛多晶硅片的轉(zhuǎn)換效率要高很多,主要表現(xiàn)為開壓和電流有大幅提升。準(zhǔn)單晶硅片與多晶硅片相比,其晶界少,位錯密度低。在晶硅的晶粒界面處可以形成一定寬度的耗盡層和勢壘,同時又是復(fù)合中心,晶界越少,對開路電壓和短路電流越有利,獲得的轉(zhuǎn)換效率越高[3]。
表1 各工藝參數(shù)
表2 實驗各電學(xué)參數(shù)
為提高晶體硅電池片對光的吸收,減少光的反射,一般采用表面織構(gòu)化和表面沉積減反射膜的方法。目前工業(yè)化生產(chǎn)時,采用PECVD法在硅片表面沉積氮化硅膜層,而其與晶體硅形成的界面處由于晶格失配比較嚴(yán)重,會出現(xiàn)嚴(yán)重的復(fù)合。二氧化硅與晶體硅形成的界面性能要更優(yōu),所以,為了達(dá)到比較理想的鈍化和減反效果,在實際中,一般采用熱氧工藝低溫生長制備所需的二氧化硅薄膜, 然后再PECVD 工藝沉積氮化硅膜。二氧化硅和氮化硅雙層膜可以起到鈍化和減反射雙重作用。
本實驗B、C、D的熱氧工藝均是在常規(guī)的擴(kuò)散設(shè)備中導(dǎo)入熱氧工藝進(jìn)行的。 實驗B中,在多晶生產(chǎn)工藝基礎(chǔ)上增加熱氧工藝后,準(zhǔn)單晶電池轉(zhuǎn)換效率有所下降,其中短路電流和開路電壓均下降,并阻下降幅度最大,且反向電流明顯增大。初步懷疑是所選擴(kuò)散機(jī)臺潔凈度未能達(dá)到工藝要求。C組實驗,除絲網(wǎng)采用多晶生產(chǎn)工藝,其他采用單晶生產(chǎn)工藝。從數(shù)據(jù)可以看出,轉(zhuǎn)換效率明顯有提升。但在抽片進(jìn)行EL檢測時,發(fā)現(xiàn)輕微的燒不透現(xiàn)象,分析認(rèn)為,多晶絲網(wǎng)燒結(jié)工藝與前期的單晶工藝存在不匹配的可能性。
圖1為C組轉(zhuǎn)換效率散點(diǎn)圖。從散點(diǎn)圖中可以看到,采用C的工藝步驟時,準(zhǔn)單晶的轉(zhuǎn)換效率波動幅度大,且不乏20.00%左右的轉(zhuǎn)換效率,可見該工藝步驟有很大的優(yōu)化空間,因絲網(wǎng)是使用多晶生產(chǎn)工藝,因此絲網(wǎng)印刷將是下組實驗的主要優(yōu)化目標(biāo)。為此,設(shè)計了D組實驗步驟。
圖2是D組實驗的轉(zhuǎn)換效率散點(diǎn)圖,圖3是D組實驗效率分布圖。D組實驗中,絲網(wǎng)印刷匹配了單晶正銀漿料,并且燒結(jié)溫度作相應(yīng)的調(diào)整,電極與基體硅形成了良好的歐姆接觸,從表2數(shù)據(jù)可以看出,準(zhǔn)單晶使用單晶生產(chǎn)工藝后,開路電壓和短路電流較C組又有較為明顯的提升,轉(zhuǎn)換效率也得到改進(jìn)。同時,從效率散點(diǎn)圖和分布圖可以看到,D組實驗獲得的準(zhǔn)單晶效率分布均勻。
圖1 C組轉(zhuǎn)換效率散點(diǎn)圖
圖2 D組轉(zhuǎn)換效率散點(diǎn)圖
圖3 D組效率分布圖
本次實驗中,準(zhǔn)單晶電池片使用單晶生產(chǎn)工藝,可以獲得接近于普通單晶的轉(zhuǎn)換效率。
準(zhǔn)單晶是外觀和性能類似于單晶硅的多晶硅片。通過多晶生產(chǎn)工藝和單晶生產(chǎn)工藝的對比,準(zhǔn)單晶硅更適合普通單晶硅的生產(chǎn)步驟來制備電池片。實驗中,采用單晶生產(chǎn)工藝,并匹配合適的燒結(jié)工藝,獲得了20.06%的轉(zhuǎn)換效率。
準(zhǔn)單晶作為一種高轉(zhuǎn)換效率低成本材料,它的研究有重要意義。雖然準(zhǔn)單晶硅的技術(shù)還存在一些問題,但長遠(yuǎn)發(fā)展看,它對光伏發(fā)展有積極的意義。