杜昌明,欒祿全,肖 穎,呂建輝*,李 菁,陶文晶,趙英翠
(1.中國石油吉林石化公司 研究院,吉林 吉林 132021;2.中國石油吉林石化公司 精細(xì)化學(xué)品廠,吉林 吉林 132021;3.中國石油吉林石化公司 煉油廠,吉林 吉林 132021)
辛醇(2-乙基己醇),主要用于生產(chǎn)增塑劑、萃取劑、穩(wěn)定劑,用作溶劑和香料的中間體[1-2]。工業(yè)上一般由羰基合成法(丙烯氫甲?;?生產(chǎn),先得到辛烯醛,然后辛烯醛加氫得到辛醇產(chǎn)品[3]。而醛催化加氫工藝又包括液相法和氣相法[4-5]。中國石油吉林石化公司采用液相加氫工藝生產(chǎn)辛醇,催化劑為鎳基催化劑[6-7]。
鎳基催化劑以其低廉的價格和優(yōu)異的催化活性,在醛加氫領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用[8-11],其載體的選擇、制備方法、助劑的添加等對催化劑的性能有顯著影響。中國石油吉林石化公司某廠加氫催化劑,以濕凝膠為載體,Ni為活性組分,通過混合法制備[6]。該催化劑活性穩(wěn)定,工業(yè)化應(yīng)用良好。然而,最近生產(chǎn)的一批催化劑出現(xiàn)還原活化不佳,催化活性低的現(xiàn)象,嚴(yán)重影響了生產(chǎn)裝置的正常運(yùn)行。
為解決這一問題,對生產(chǎn)的2批催化劑分別進(jìn)行了N2物理吸附(BET)、X射線衍射(XRD)、X射線熒光(XRF)、掃描電鏡(SEM)、程序升溫還原(H2-TPR)和動態(tài)脈沖H2吸附等表征,從催化劑的基本物性、化學(xué)組成及微觀結(jié)構(gòu)上,比較分析了催化劑活性差異的原因。然后結(jié)合催化劑的實(shí)際生產(chǎn)工藝和生產(chǎn)狀況,探討了催化劑生產(chǎn)過程中可能存在的問題,并提出了催化劑工業(yè)生產(chǎn)意見和建議。
氫氣、氦氣:色譜純,吉化北方云雀氣體廠。
X射線衍射儀:XRD-6000,X射線熒光光譜儀:XRF-1500,日本島津公司;物理吸附儀:ASAP-2020,美國Micromeritics公司;全自動化學(xué)吸附儀:TP5080,天津先權(quán)工貿(mào)發(fā)展有限公司;掃描電子顯微鏡:S3000N,日本日立公司。
X射線衍射(XRD):分子篩物相分析采用轉(zhuǎn)靶X射線衍射儀,Cu Kα靶,電壓為40 kV,電流為30 mA,掃描速率為2°/min,掃描范圍為10°~80°。
比表面積和孔結(jié)構(gòu)測定(BET):采用自動物理吸附儀。樣品測試前在623 K下真空脫附預(yù)處理,氮?dú)鉃槲劫|(zhì),液氮溫度下吸附。
X射線熒光光譜(XRF):采用X射線熒光光譜儀對催化劑進(jìn)行元素含量分析。
H2程序升溫還原(H2-TPR):H2程序升溫還原測試在全自動多用吸附儀上進(jìn)行。反應(yīng)前將50 mg催化劑置于石英管中,室溫下采用30 mL/min的V(H2)∶V(N2)=1∶9的還原氣吹掃至基線平衡后在此氣氛下以10 ℃/min升溫至800 ℃。尾氣進(jìn)入熱導(dǎo)池前通過堿石灰吸附雜質(zhì)。
掃描電鏡(SEM):采用掃描電子顯微鏡表征催化劑樣品的形貌,掃描加速電壓為15 kV。
分散度:通過動態(tài)脈沖H2吸附法測定金屬組分分散度。準(zhǔn)確稱取100 mg催化劑置于石英管中,在He吹掃下升至350 ℃,更換氣體V(H2)∶V(N2)=1∶9混合氣,通入2 h,對催化劑進(jìn)行還原。更換氣體為He,吹掃降至50 ℃,脈沖通入H2至吸附飽和,根據(jù)飽和吸附量和每次吸附量計算得到H2化學(xué)吸附量,計算得到金屬分散度。
某廠加氫催化劑的XRD圖見圖1。
2θ/(°)
由圖1可知,載體SiO2和活性組分NiO的衍射峰較明顯。從對比看出,2批辛烯醛加氫催化劑的XRD衍射峰的峰形、峰強(qiáng)度均沒有明顯差別。
由于采用球磨混合法生產(chǎn)催化劑過程中,瓷球互相碰撞、摩擦,容易掉粉,造成活性組分含量相對降低[6],所以分別測試了2批催化劑的載體和活性組分含量,見表1。
表1 催化劑的平均化學(xué)組成
由表1可知,2批催化劑在載體和活性組分含量上的差異微小,不會導(dǎo)致2批催化劑在活性上的巨大差異。
通過N2物理吸附脫附測定了催化劑的BET比表面積、孔體積、平均孔徑,見表2。
表2 催化劑比表面積、孔體積及平均孔徑數(shù)據(jù)
由表2可知,第二批催化劑的BET比表面積、平均孔徑略大于第一批催化劑,但是差別不明顯,不是造成催化劑活性差異原因。
為考察加氫2批催化劑的還原活化性質(zhì),對其進(jìn)行了H2-TPR測試,結(jié)果見圖2。
t/℃
由圖2可知,2批催化劑的氫氣還原峰分別表現(xiàn)為低溫和高溫2個還原峰。催化劑的高溫還原峰為體相金屬組分的還原峰,而低溫還原峰為催化劑高分散金屬組分(微晶或不定型金屬組分,其主要催化作用的活性金屬組分)的還原峰,且該低溫還原溫度越低對應(yīng)催化劑的活性組分分散度越高[12],催化劑活性也就越高。第二批催化劑的低溫還原峰較高,約為309 ℃,而第一批催化劑的低溫還原峰為295 ℃,二者相差14 ℃,表明第一批催化劑金屬Ni的分散度更高。為了進(jìn)一步說明這一現(xiàn)象,分別對2批催化劑進(jìn)行了SEM和金屬分散度表征。
2批加氫催化劑的SEM圖見圖3。
a 第一批
由圖3可知,第二批催化劑表面鎳顆粒的粒徑明顯大于第一批催化劑。
2批催化劑還原后的動態(tài)脈沖H2吸附圖見圖4、圖5。
t/s
t/s
由圖中可知,每次H2進(jìn)樣后,都會出現(xiàn)一個信號峰。信號峰的峰面積,對應(yīng)氫氣的相對含量。隨著H2進(jìn)樣次數(shù)的增加,信號峰的峰面積也逐漸增大,然后趨勢于相對恒定。這是由于催化劑的表面活性組分Ni被還原后,對H2產(chǎn)生了如下吸附作用。
即表面Ni原子與H2吸附的比例為2∶1[13-14]。
每次H2的進(jìn)樣量恒定,均為20 μL。進(jìn)樣后,由于催化劑表面Ni原子對H2的吸附作用,部分H2被催化劑吸附,留住了催化劑表面。而未被吸附的H2隨著載氣進(jìn)入TCD檢測器,產(chǎn)生一個信號峰。隨著H2進(jìn)樣次數(shù)的增加,催化劑表面Ni原子對H2的吸附量也逐漸趨于飽和,每次進(jìn)樣后被吸附的H2也減少,檢測到的信號峰面積增加。當(dāng)吸附達(dá)到飽和時,H2不再被吸附。前后2次H2進(jìn)樣,產(chǎn)生的信號峰不再變化,即可說明吸附達(dá)到飽和。
計算催化劑金屬組分分散度結(jié)果見表3。
表3 催化劑金屬組分分散度
由表3可知,第二批催化劑金屬組分分散度低,其活性比表面積小,顆粒粒度大,對應(yīng)催化劑的活性差。這與催化劑的H2-TPR、SEM表征結(jié)果以及催化劑的實(shí)際應(yīng)用情況相一致。
2.2.1 原因分析
從化學(xué)分析結(jié)果可知,2批催化劑在組成上相似,活性組分Ni和載體SiO2含量接近,且2批催化劑的XRD衍射峰高度相似,均觀察到NiO和SiO2的衍射峰,沒有明顯的其他物質(zhì)衍射峰。因此,可斷定不是催化劑組成(載體和活性組分含量種類)上的不同造成了其催化活性上的巨大差異。
2批催化劑在BET比表面積、孔體積上同樣沒有較大的不同。通過H2-TPR、SEM和金屬分散度測定,均發(fā)現(xiàn)了催化劑活性組分顆粒大小、分散度上的明顯差異。因此,猜測可能是催化劑制備過程中的問題。
根據(jù)催化劑的生產(chǎn)工藝步驟,其最為關(guān)鍵的一步為混合球磨過程,該過程非常容易掉粉[6]。由于球磨機(jī)內(nèi)瓷球長期使用,不更換,使得原來3種直徑大小不同的小球比例發(fā)生變化,逐漸變?yōu)橹睆酱笮∠鄬坏拇汕?。所以,后期生產(chǎn)中球磨不完全,導(dǎo)致金屬組分顆粒粒度大,分散度低,相同還原活化條件下(溫度290 ℃)出水量少,活性低。
2.2.2 生產(chǎn)建議
(1)根據(jù)球磨機(jī)使用情況及小球的磨損、破碎情況,適時更換球磨機(jī)小球,保證球磨效率;
(2)生產(chǎn)過程中,對每一批球磨樣品及時取樣,通過SEM、H2-TPR等表征檢測球磨質(zhì)量;
(3)對于球磨不完全的產(chǎn)品,可返回球磨機(jī),適當(dāng)增加球磨時間,提高球磨質(zhì)量。
(1)通過基本物理性質(zhì)、XRD和化學(xué)組成分析未觀察到2批加氫催化劑存在明顯差別,可斷定不是催化劑組成(載體和活性組分含量種類)上的不同造成了其催化活性上的巨大差異;
(2)通過對2批加氫催化劑在BET比表面積、孔體積、SEM、金屬分散度和H2-TPR譜圖上的比較,發(fā)現(xiàn)了催化劑活性組分顆粒大小、分散度上的明顯差異,這是2批催化劑在活性差異上的根本原因;
(3)結(jié)合加氫催化劑的生產(chǎn)工藝和生產(chǎn)狀況,分析2批催化劑活性差異較大的生產(chǎn)工藝可能原因?yàn)榍蚰C(jī)長時間使用,內(nèi)部小球磨損、破碎嚴(yán)重,且未及時更換,在前后2次生產(chǎn)中球磨時間相同的情況下,第二批催化劑球磨不完全,導(dǎo)致金屬組分顆粒度大,分散度低,相同溫度下還原出水量少,活性低。