張 催,張才鑫,楊亞飛,戴 斌,杜 宇,陳 華,張偉斌
(中國工程物理研究院化工材料研究所,四川 綿陽 621999)
近年來,高聚物粘結(jié)炸藥(Polymer Bonded Explosive,PBX)因其成型密度高、力學(xué)性能好、安全性能優(yōu)異等特點在國內(nèi)外武器行業(yè)廣泛應(yīng)用[1-4],以炸藥造型顆粒為原材料通過壓制成型是PBX 的一種重要成型制造方式。炸藥造型顆粒由炸藥晶粒、高分子粘結(jié)劑和功能助劑等混合造粒而成,結(jié)構(gòu)具有多樣性,其堆積而成的顆粒體系具有復(fù)雜的堆積結(jié)構(gòu)。造型顆粒的結(jié)構(gòu)特性對最終成型炸藥部件的物理、力學(xué)及爆轟性能具有顯著影響,獲得造型顆粒結(jié)構(gòu)統(tǒng)計特征參量是研究造型顆粒特性與炸藥部件性能關(guān)聯(lián),進而調(diào)控炸藥部件性能、提升炸藥部件質(zhì)量的關(guān)鍵[5]。
造型顆粒單個顆粒的尺寸通常為幾十微米至幾毫米,介于微觀-細觀尺度,尺寸跨度較大,適用于該尺度的結(jié)構(gòu)表征手段有限,目前針對其特征參量的量化表征方法主要包括篩分法、光學(xué)顯微鏡、掃描電鏡和X 射線計算機斷層成像(Computed Tomography,CT)。篩分法作為傳統(tǒng)方法,操作簡單,但表征參量十分有限,只能給出有限的粒度段;光學(xué)顯微鏡和掃描電鏡可給出造型顆粒二維形貌和粒徑,但無法實現(xiàn)顆粒內(nèi)部結(jié)構(gòu)和三維特征參量信息表征。X 射線CT 具有無損、精密、可透視的特點,可對樣品內(nèi)部和三維結(jié)構(gòu)進行表征,國內(nèi)外學(xué)者已開展相關(guān)技術(shù)基礎(chǔ)及應(yīng)用研究,并已實現(xiàn)CT 技術(shù)在材料及晶體顆粒無損檢測和表征分析中的應(yīng)用[6-11]。JIA 等[6]利用顯微CT 技術(shù)實現(xiàn)了對炸藥晶體(奧克托金、黑索今和高氯酸銨)形貌特性的表征,但針對細觀尺度炸藥造型顆粒的研究鮮見報道。近年來,針對炸藥造型顆粒[12]、顆粒體系[13-14]的X 射線CT 成 像 研 究 已 有 學(xué) 者 開 展,ZHANG 等[12,14]利 用CT 成像獲得了造型顆粒內(nèi)部結(jié)構(gòu)及顆粒體系的堆積結(jié)構(gòu),但尚未開展造型顆粒結(jié)構(gòu)及堆積特性的量化表征研究。
本研究利用顯微CT 獲得造型顆粒三維CT 圖像,通過形態(tài)學(xué)處理,得到TATB 基造型顆粒的基本信息(形狀、體積、數(shù)量、位置等),統(tǒng)計分析技術(shù)量化獲取炸藥造型顆粒統(tǒng)計特征參量(粒度、形貌、孔隙、密度和堆積狀態(tài)等),評估其準確性、穩(wěn)定性和重復(fù)性,以期為造型顆粒量化表征。
CT 成像原理如圖1 所示,成像系統(tǒng)主要由X 射線源、探測器及樣品掃描臺組成。利用面陣探測器記錄X 射線穿過被測樣品后的投影圖像,通過樣品掃描臺旋轉(zhuǎn)在不同角度下采集樣品的投影圖像,利用特定的三維圖像重建算法重建出被測樣品的三維圖像?;趲缀喂鈱W(xué)放大原理[15]實現(xiàn)對造型顆粒的顯微CT 成像,空間分辨率達到微米級,放大倍數(shù)M可由式(1)表示:
式中,F(xiàn)DD 和FOD 分別表示X 射線源焦點到探測器平面和物體中心平面的距離,mm,成像系統(tǒng)極限空間分辨率可由等效束流寬度BW表示,μm,如式(2)所示[16]:
式中,s為X 射線源焦點尺寸,μm;p為探測器像元尺寸,μm;M為放大倍數(shù),無量綱。
圖1 顯微CT 成像設(shè)置示意圖Fig.1 Schematic diagram of micro-CT imaging
針對不同的樣品檢測需求(樣品尺寸、空間分辨率),根據(jù)式(2),可通過調(diào)節(jié)X 射線源、樣品和探測器的幾何距離(即FDD 和FOD)來改變放大倍數(shù)M,在保證成像視場覆蓋被測樣品的前提下,實現(xiàn)最佳空間分辨率,通常情況下樣品尺寸越大,對應(yīng)的極限空間分辨率越低。對于本研究所采用顯微CT 系統(tǒng),焦點尺寸5 μm,探測器像元尺寸為127 μm,表1 給出了給定待測樣品尺寸(以容器內(nèi)徑表征)條件下,對應(yīng)的最大放大比與極限空間分辨率(體素尺寸)以及最大可檢樣品體積。由表1 可以看出,當(dāng)容器內(nèi)徑為5 mm 時,極限空間分辨可達6.4 μm,但可檢樣品體積較小,為0.1 cm3;當(dāng)容器內(nèi)徑為40 mm 時,可檢樣品體積達到50.2 cm3,但空間分辨率為50.8 μm,造型顆粒的細節(jié)分辨將有所下降,因此成像參數(shù)需根據(jù)樣品尺寸和空間分辨率需求權(quán)衡選擇。此外,通過調(diào)節(jié)射線源的管電壓和管電流提供不同的X 射線穿透能力和射線束強度,管電壓越高穿透能力越強,管電流越大射線束強度越大,本研究中由于造型顆粒對X 射線吸收較弱,因此在保證探測器計數(shù)相對穩(wěn)定的情況下,一定范圍內(nèi)管電壓和管電流的變化對CT 成像結(jié)果影響較小。
表1 不同待測樣品尺寸條件下對應(yīng)的CT 成像參數(shù)和能力Table 1 Corresponding CT imaging parameters and capabilities under different sample size
利用顯微CT 成像得到造型顆粒CT 三維圖像后,通過圖像處理和統(tǒng)計分析可提取出造型顆粒統(tǒng)計特征參量,實現(xiàn)對造型顆粒的量化表征,流程如圖2 所示,主要包括圖像預(yù)處理、圖像形態(tài)學(xué)處理以及統(tǒng)計分析。
圖像預(yù)處理主要流程如圖3 所示,首先載入造型顆粒原始CT 數(shù)據(jù)I0(為便于展示以二維CT 圖像呈現(xiàn)),再通過圖像裁剪及閾值分割去除樣品容器,即通過圖像裁剪去除容器整體,再利用顆粒尺寸閾值(100 體素)去除裁剪殘留的容器碎片,得到僅保留造型顆粒的三維CT 圖像I1,利用平滑濾波操作降低圖像噪聲得到I2,再利用MATLAB 軟件中的imhist 函數(shù)計算I2的灰度直方圖,并基于灰度直方圖采用OTSU 算法(最大類間方差法)[17]計算得到全局二值化閾值T。
圖3 CT 數(shù)據(jù)圖像預(yù)處理示意圖Fig.3 Sketch map of CT image processing at each stage
圖像形態(tài)學(xué)處理中,利用全局二值化閾值T對I2進行二值化,即圖像中像素灰度值大于等于T的像素賦值為1,小于T的像素賦值為0,得到二值化圖像I3。利用圖像孔洞填充方法(imfill 函數(shù))填充I3圖像中的顆粒內(nèi)部孔隙(內(nèi)部封閉孔洞),得到I3_fill,再利用分水嶺分割算法(watershed 函數(shù))分別對I3和I3_fill進行圖像分割,得到所有顆粒被獨立標記的分割圖像I4和I4_fill。在分割圖像的基礎(chǔ)上,利用統(tǒng)計方法(三維圖像幾何特性計算函數(shù)regionprops3)得到每一顆造型顆粒的基本結(jié)構(gòu)信息,包括顆粒質(zhì)心坐標Gi、體積Vi、表面積Si以及顆粒數(shù)N等。
基于顆?;拘畔ⅲw積Vi、表面積Si以及顆粒數(shù)N),提取的炸藥造型顆粒統(tǒng)計特征參量主要包括:等體積粒徑d、球形度ψ、孔隙率η、本征密度ρ、體積分數(shù)Φ,分別用于表征造型顆粒的粒徑、形貌、內(nèi)部孔隙、密度和堆積狀態(tài)。
等體積粒徑d表征顆粒大?。?8],mm,由式(3)計算得到,計算每顆顆粒的等體積粒徑di,可以給出造型顆粒體系的粒徑分布并利用式(4)計算得到平均粒徑-d:
式中,Vi為第i個顆粒的體積,mm3;π 為圓周率,取值3.1415。
球形度ψ表征顆粒形貌特性[15,18],無量綱,其值介于0 到1 之間,值越大表明顆粒形狀趨向于球形,可由式(5)計算得到,計算每顆顆粒的球形度ψi,可得到球形度分布,通過式(6)可計算出平均球形度-ψ:
式中,Si為第i個顆粒的表面積,mm2;N為顆粒數(shù),單位為顆。
孔隙率η表征顆粒內(nèi)部CT 圖像可見孔隙率,無量綱,可由式(7)計算得到:
式中,Vi_fill為第i個顆粒填充后的體積,mm3。
本征密度ρ表征顆粒密度,g·cm-3,與松裝密度相比去除了顆粒之間空隙對密度的影響,直接給出了顆粒本身的密度,由顆??傎|(zhì)量除以顆??傮w積得到,可由式(8)計算得到:
式中,m為顆粒體系的總質(zhì)量,g。
體積分數(shù)Φ表征顆粒體系堆積狀態(tài),由顆粒總體積比上容器體積得到,無量綱,值介于0 到1 之間,值越大表明顆粒堆積越緊密,可由式(9)計算得到:
式中,V0為造型顆粒體系的松裝體積,包含顆粒體積及顆粒之間的空隙體積,mm3,通過容器尺寸和顆粒堆積高度計算得。
實驗樣品為TATB 造型顆粒,其堆積的顆粒體系如圖4a 所示。樣品容器內(nèi)徑為10 mm,TATB 造型顆粒樣品量約為0.7 cm3,質(zhì)量0.73g。設(shè)備采用天津三英精密公司NanoVoxel 9010 型號顯微CT 成像系統(tǒng),實驗設(shè)置如圖4b 所示。CT 成像參數(shù)為管電壓60 kV,管電流160 μA,放大倍數(shù)M=8.9,體素尺寸14.3 μm,采集角度360 度,投影角度數(shù)1080,單幅曝光時間0.3 s,探測器采集動態(tài)范圍16 位。篩分實驗采用18目篩網(wǎng),篩孔尺寸1.0 mm。
圖4 造型顆粒體系CT 成像實驗設(shè)備與樣品Fig.4 Experimental setup and samples for CT imaging of molding granules
首先開展TATB 造型顆粒統(tǒng)計特征參量表征實驗,其次利用篩網(wǎng)篩分造型顆粒后,篩網(wǎng)上/下側(cè)樣品分別命名為S1 和S2,分別對篩網(wǎng)上/下側(cè)的造型顆粒統(tǒng)計特征參量進行表征,驗證造型顆粒粒徑表征結(jié)果的可靠性。最后利用同一樣品在不同時間段(共5 次實驗,單次CT 實驗40 分鐘,每次實驗之間間隔2 小時,實驗編號1#、2#、3#、4#和5#)或不同堆積狀態(tài)(共5次實驗,每次實驗前通過晃動容器改變顆粒堆積狀態(tài),待堆積狀態(tài)穩(wěn)定后進行CT 實驗,實驗編號6#、7#、8#、9#和10#)下進行統(tǒng)計特征參量表征實驗,分別評估表征方法的穩(wěn)定性和重復(fù)性。
2.3.1 統(tǒng)計特征參量表征
研究采用顯微CT 對TATB 基造型顆粒樣品進行了三維CT 檢測,造型顆粒體系的CT 成像橫切面、縱切面及三維結(jié)果如圖5 所示。由圖5a 和圖5b 可以看出,無論是在橫切面還縱切面,不同造型顆粒的粒徑和形貌存在差異,且均具有一定分布;顆粒內(nèi)部存在許多可見孔隙,不同顆粒之間存在大量空隙;造型顆粒體系的局部堆積結(jié)構(gòu)因顆粒粒徑和形貌差異,以及樣品容器約束條件的不同,存在較大差異。圖5c 的造型顆粒三維結(jié)構(gòu)給出了更為直觀的顆粒粒徑、形貌以及堆積狀態(tài)展示。
圖5 造型顆粒CT 成像結(jié)果Fig.5 CT imaging results of molding granules
基于圖5 所示造型顆粒原始CT 圖像,通過圖像處理得到CT 數(shù)據(jù)圖像處理各階段結(jié)果,如圖6 所示。由圖6 可以看到,本研究所發(fā)展的圖像處理方法可適用于真實造型顆粒CT 圖像,原始CT 圖像經(jīng)過容器去除、濾波、二值化、圖像填充、圖像分割以及圖像統(tǒng)計,得到造型顆?;拘畔ⅲw粒體積Vi、顆粒表面積Si以及顆粒數(shù)N)。
在此基礎(chǔ)上,利用式(4)、式(6)、式(7)、式(8)和式(9)分別計算得到平均等體積粒徑-d為1.020 mm,平均球形度-ψ為0.881,孔隙率η為2.292%,本征密度ρ為1.356 g·cm-3,體 積 分 數(shù)Φ為0.692。結(jié) 果 表 明TATB 基造型顆粒粒徑處于毫米量級,形狀大致趨于球形,顆粒內(nèi)部孔隙較多(空間分辨率14.3 μm),本征密度介于松裝密度(通常0.7~0.9 g·cm-3)和理論密度(通常1.9~2.0 g·cm-3)之間。
圖6 CT 數(shù)據(jù)圖像處理各階段結(jié)果Fig.6 Results of CT image processing at each stage
利用式(3)和式(5)可分別計算得到每個造型顆粒的粒徑和球形度,統(tǒng)計各粒徑段和球形度段的顆粒數(shù)目并進行歸一化可分別得到粒徑分布和球形度分布,如圖7 所示,藍色直方圖為原始分布,紅色曲線為擬合結(jié)果。由圖7a 可以看出,粒徑分布整體呈鐘形分布,直方圖圍繞均值(1.02 mm)存在一定展寬,半高全寬約0.4 mm,粒徑主要分布于0.6~1.4 mm,大粒徑顆粒(>1.02 mm)比小粒徑顆粒(<1.02 mm)分布更寬,擬合結(jié)果表明粒徑近似服從指數(shù)型高斯分布。由圖7b 可以看出,球形度直方圖峰值(0.95)左側(cè)分布較寬,右側(cè)分布較窄,球形度主要分布于0.8~1.0,表明TATB 基造型顆粒形狀大致趨于球形,擬合結(jié)果表明球形度近似服從韋伯分布。
圖7 TATB 基造型顆粒粒徑及球形度分布Fig.7 Particle size and sphericity distribution of TATB-based molding granules
2.3.2 統(tǒng)計特征參量表征結(jié)果評估
2.3.2.1 表征方法準確性驗證
考慮到目前針對炸藥造型顆粒暫未有可靠和有效手段獲得統(tǒng)計特征參量表征結(jié)果,尚無法與本研究表征方法進行全面對比驗證,但由于本研究中統(tǒng)計特征參量均基于造型顆粒結(jié)構(gòu)信息,顆粒等體積粒徑表征結(jié)果的準確性可驗證結(jié)構(gòu)信息提取的可靠性,進而支撐其他統(tǒng)計特征參量表征的準確性。本研究以顆粒粒徑為例進行分析,利用篩網(wǎng)篩分TATB 基造型顆粒測試樣品,對篩網(wǎng)上/下側(cè)的造型顆粒樣品分別進行統(tǒng)計特征參量表征實驗,得到篩網(wǎng)上/下側(cè)造型顆粒樣品的粒徑分布直方圖如圖8 所示,其中橙色和藍色分別為篩網(wǎng)上側(cè)和下側(cè)顆粒樣品的粒徑分布,兩者分布重疊部分為棕色表示。由圖8 可以看出,篩網(wǎng)上/下側(cè)顆粒的粒徑分布對稱分布于篩網(wǎng)孔徑(1.0 mm)兩側(cè),篩網(wǎng)上/下側(cè)樣品平均粒徑分別為1.15 mm 與0.85 mm,對稱中心為1.0 mm,與篩網(wǎng)孔徑一致,以上兩點驗證了本研究表征方法對造型顆粒粒徑表征結(jié)果的準確性。
圖8 篩網(wǎng)篩分上/下側(cè)造型顆粒粒徑分布表征結(jié)果Fig.8 Characterization results of the particle size distribution of molding granules at the upper/lower of the sieve
2.3.2.2 表征結(jié)果的穩(wěn)定性
利用2.2 中1#~5#組對比實驗評估造型顆粒統(tǒng)計特征參量表征結(jié)果的穩(wěn)定性,結(jié)果如表2 所示。由表2可以看出,不同時間段表征得到的統(tǒng)計特征參量變化較小,除孔隙率η以外,其他統(tǒng)計特征參量(-d、-ψ、ρ和Φ)表征結(jié)果的相對變化均優(yōu)于1%,表明利用本研究表征方法得到的造型顆粒統(tǒng)計特征參量表征結(jié)果具有較好的穩(wěn)定性。平均等體積粒徑-d相對變化最小,孔隙率η和球形度-ψ相對變化較大,這主要是由于與顆粒粒徑相比,顆粒內(nèi)部孔隙尺寸更小,通常小1~2 個量級,而球形度計算因涉及顆粒表面積,受到顆粒尺寸和表面形貌兩者共同影響,因此CT 系統(tǒng)和環(huán)境的微小變化所引起的孔隙率和球形度表征結(jié)果的相對變化顯著高于等體積粒徑表征結(jié)果的相對變化。
2.3.2.3 表征結(jié)果的重復(fù)性
為了評估造型顆粒統(tǒng)計特征參量表征結(jié)果的可重復(fù)性,利用2.2 中6#~10#組對比實驗研究同一樣品不同堆積狀態(tài)下的統(tǒng)計特征參量表征結(jié)果變化,如表3所示。由表3 可以看出,不同堆積狀態(tài)下顆粒統(tǒng)計特征參量表征結(jié)果存在一定差異,其中平均等體積粒徑、本征密度ρ和體積分數(shù)Φ變化較小,相對變化分別為0.20%、0.44%和0.29%,平均球形度-ψ、孔隙率η變化相對較大,相對變化分別為1.51%和4.44%。相較于穩(wěn)定性實驗,重復(fù)性實驗中除了CT 系統(tǒng)和環(huán)境變化,還引入了不同堆積狀態(tài)的影響,由表3 可以看到,樣品堆積狀態(tài)對統(tǒng)計特征參量均存在一定影響,這是由于堆積狀態(tài)的改變導(dǎo)致顆粒位置和接觸變化,影響圖形態(tài)學(xué)處理結(jié)果,進而影響統(tǒng)計特征參量的提取表征。特別對于孔隙率和球形度,堆積狀態(tài)的改變,將使得部分顆粒堆積形成封閉孔洞被誤判為顆粒內(nèi)部孔隙,部分顆粒之間由于緊密接觸導(dǎo)致呈現(xiàn)的表面形貌變化,從而導(dǎo)致孔隙率和球形度的量化表征結(jié)果。
表2 不同時間條件下造型顆粒特征參量表征結(jié)果Table 2 Characterization results of characteristic parameters of molding granules at different times
表3 不同堆積狀態(tài)下造型顆粒統(tǒng)計特征參量表征結(jié)果Table 3 Characterization results of characteristic parameters of molding granules under different packing states
(1) 基于顯微CT、圖像處理和統(tǒng)計方法研究了造型顆粒結(jié)構(gòu)統(tǒng)計特征參量CT 量化表征技術(shù),實現(xiàn)了對造型顆粒體系統(tǒng)計特性(粒徑、形貌、孔隙、密度、堆積)的量化表征。
(2) TATB 基造型顆粒體系的粒徑、球形度分別近似服從指數(shù)高斯和韋伯分布,平均粒徑為1.02 mm,平均球形度為0.88,本征密度1.35 g·cm-3,可見孔隙率2.3%(空間分辨率14.3 μm),體積分數(shù)0.69。
(3) 造型顆粒結(jié)構(gòu)統(tǒng)計特征參量表征方法具有較好的準確性,表征結(jié)果的穩(wěn)定性和重復(fù)性較好。粒徑表征結(jié)果與篩網(wǎng)篩分結(jié)果相符,主要統(tǒng)計特征參量在不同時間段的表征結(jié)果相對變化小于1%,形貌和孔隙特性表征結(jié)果受造型顆粒堆積狀態(tài)影響較大,重復(fù)性相對較低,相對變化分別為1.51%和4.44%。