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      行星式雙平面多工件研磨盤設(shè)計

      2014-04-01 06:23:08邊培瑩
      機(jī)械制造與自動化 2014年5期
      關(guān)鍵詞:速比磨粒研磨

      邊培瑩

      (西安文理學(xué)院,陜西 西安,710065)

      0 引言

      現(xiàn)代制造中對機(jī)械零件的加工精度和表面品質(zhì)提出了更高的要求,研磨技術(shù)成為精密加工技術(shù)中的一種,在機(jī)械加工中應(yīng)用越來越廣泛,因此其研磨精度與效率成為尤為重要的關(guān)鍵因素。目前對平面研磨的研究已有近半個世紀(jì)的歷史,其研磨機(jī)理與軌跡分析都有很多成熟的算法與理論,而進(jìn)一步推進(jìn)研磨技術(shù)的高效化、實用化是目前主要的實踐需求。

      雙面平面研磨是在超精密磨削的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種磨削方法,主要用于加工兩平行面,比單平面研磨具有更高效率及精度。本設(shè)計就是以高效的多工件、雙平面研磨的需求而展開的行星式研磨盤結(jié)構(gòu)設(shè)計與運(yùn)動仿真,通過仿真,進(jìn)一步驗證了已有的解析法研究軌跡。

      1 節(jié)圓式雙平面研磨機(jī)理分析

      研磨軌跡是由加工設(shè)備及其幾何運(yùn)動參數(shù)決定。對其進(jìn)行分析是研磨軌跡均勻性研究的基礎(chǔ),分析時一般對研磨設(shè)備進(jìn)行一些假設(shè),如1)工件、磨粒、研磨盤均為剛體;2)所有磨粒粒徑都相同且不考慮、不破碎、不脫落;3)忽略工件與研磨盤轉(zhuǎn)動誤差等影響因素。

      根據(jù)已有研究,平面研磨軌跡主要有4 種[1]:1)直線式研磨運(yùn)動軌跡。主要是用于臺階等狹長工件平面的研磨,可獲得較高的幾何精度。2)擺動式直線研磨運(yùn)動軌跡??梢垣@得較好的穩(wěn)定性與平直度。3)螺旋形研磨運(yùn)動軌跡。一般進(jìn)行圓片形或圓柱形工件端平面研磨,可獲得較小的表面粗糙度與較高的平面度。4)“8”字形研磨運(yùn)動軌跡。適用于小平面工件的研磨和平板類工件的修整,能使相互研磨的平面介質(zhì)均勻接觸,并使研具均勻地磨損。

      1.1 行星式研磨原理及軌跡

      平面雙面研磨運(yùn)動機(jī)構(gòu)最常見的是行星式機(jī)構(gòu),如圖1 所示,被加工件放在行星輪孔內(nèi),行星輪除繞太陽輪中心公轉(zhuǎn)外,還繞自己中心旋轉(zhuǎn)。由于行星輪的自轉(zhuǎn)使工件中心與研磨盤中心之間的距離隨時間周期性變化,故該行星式研磨機(jī)構(gòu)也是一種不定偏心式研磨方式。其基本參數(shù)見表1。

      圖1 行星式平面研磨機(jī)運(yùn)動原理圖

      表1 行星式研磨機(jī)構(gòu)基本參數(shù)表

      假設(shè)P(R,η)為研磨盤上的任意位置磨粒,L 為O1與O2兩中心的距離,則某一磨粒P 在工件上的軌跡方程為[2]:

      其軌跡方程對應(yīng)的研磨路徑如圖2 所示[3]。

      圖2 一般行星式研磨軌跡

      1.2 采用節(jié)圓對行星式研磨軌跡解析分析[3]

      在圖1 中,太陽輪帶動行星輪繞其中心ο2回轉(zhuǎn),其絕對角速度為ω2,行星輪同時繞太陽輪的中心ο1公轉(zhuǎn),其絕對角速度ω4,以此可推算出:

      根據(jù)研磨盤與行星輪的回轉(zhuǎn)運(yùn)動,設(shè)其相對角速度分別為Ω1、Ω2,于是有:

      一般定義兩個回轉(zhuǎn)運(yùn)動的角速度之比稱為速比,即:

      式中:R1,R2分別為研磨盤與行星輪的節(jié)圓半徑,將式(2)—式(4)代入式(5)可得:

      由中心距與節(jié)圓半徑的關(guān)系Z1+Z2=A,便可求得節(jié)圓半徑的表達(dá)式:

      由于研磨盤的節(jié)圓(母圓)靜止不動,行星輪的節(jié)圓(滾圓)在其上作純滾動,經(jīng)節(jié)圓矢量變換后最終得直角坐標(biāo)表達(dá)式:

      由此軌跡方程即可得到行星式研磨軌跡理論分析圖,當(dāng)中心距A 一定,發(fā)生點(diǎn)的位置(a2,α2)確定后,速比I 的不同將產(chǎn)生運(yùn)動類型的變化,即得到的擺線軌跡各不相同。一般文獻(xiàn)都定義I 為正,表示Ω1與Ω2異向回轉(zhuǎn),I 為負(fù),表示Ω1與Ω2同向回轉(zhuǎn),文獻(xiàn)[4]計算得到速比I 取不同值時,工件上定點(diǎn)相對于研磨盤的部分軌跡曲線圖如圖3。

      圖3 不同速比行星式研磨軌跡曲線圖

      由圖3 可見,速比I 的變化,將對應(yīng)不同的軌跡曲線形狀、類型及均勻性,表現(xiàn)出軌跡變化的復(fù)雜性,那么在實踐中就可以通過合理的速比值得到越雜亂、類似仿人的研磨軌跡,這正是平面研磨拋光可以獲得較高精度的主要原因。

      2 行星式雙平面研磨盤設(shè)計

      為了達(dá)到研磨精度的要求并考慮到多工件同時研磨、雙平面研磨、往復(fù)式螺旋線軌跡等設(shè)計因素,工件的被加工面是隨時被研磨盤所覆蓋著的,屬于大研磨盤小工件加工方式。在此假設(shè)研磨工件數(shù)目為4,則行星輪數(shù)K=4,初選傳動比i1H-3.59,采用標(biāo)準(zhǔn)直齒圓柱齒輪設(shè)計該研磨機(jī)構(gòu)。

      取壓力角α=20°直齒傳動β=0,由于研磨工件的最小高度為30 mm,又考慮到上研磨盤力的作用,取行星輪和太陽輪的齒輪厚度均為50 mm,則有B1=B2=50。經(jīng)對行星輪系的一系列計算,確定該研磨盤的太陽輪、行星輪、下磨盤輪等主要參數(shù)。

      根據(jù)計算參數(shù)草繪出其傳動簡圖,如圖4 所示:

      圖4 設(shè)計簡圖

      進(jìn)一步用三維實體軟件設(shè)計出實體效果圖,見圖5。

      為了實現(xiàn)不同尺寸規(guī)格的工件研磨裝夾,設(shè)計采用了螺紋式三抓卡盤,且頂端設(shè)計為半球頭,使其完成即可實現(xiàn)不同截面尺寸工件裝夾,還可實現(xiàn)工件隨盤任意軌跡擺轉(zhuǎn),其實體效果如圖5(c)。

      圖5 行星式研磨盤實體圖

      3 運(yùn)動幾何學(xué)仿真分析研磨軌跡

      對此設(shè)計的研磨盤實體結(jié)構(gòu)在PROE 環(huán)境下,進(jìn)入機(jī)構(gòu)仿真環(huán)境進(jìn)行實際加工過程的仿真。取工件上任一點(diǎn)的磨粒,仿真其在不同速比I 下的研磨軌跡,以300 s 的加工時間為例進(jìn)行位置軌跡仿真,輸出圖見圖6。

      圖6 不同速比下行星式研磨盤研磨軌跡仿真輸出圖

      由實際仿真的軌跡結(jié)果可見,與理論解析法研究并用MATLAB 繪制的軌跡圖一致,這充分證實了已有研究的理論價值。同時也進(jìn)一步證實了不同速比下的軌跡變化,即對于大研磨盤小工件、多工件同時研磨的批量加工方式,行星式研磨即往復(fù)螺旋線式軌跡對工件進(jìn)行研磨加工,可以通過改變研磨盤的轉(zhuǎn)速ω3和太陽輪的轉(zhuǎn)速ω1之比來改變研磨盤與工件之間相對運(yùn)動的軌跡,形狀及均勻性。進(jìn)一步分析可見,在使研磨盤轉(zhuǎn)速與太陽輪轉(zhuǎn)速之比較小時軌跡彎曲程度比較平緩,這種情況可降低磨具的異形磨損,提高工作效率:當(dāng)其速比較大時,且為負(fù)時,可以使研磨中工件表面的平均相對速度下的研磨均勻性得到改善,并顯示出軌跡變化的雜亂性,對應(yīng)的這將改善材料去除率的均勻性,提高工件的表面品質(zhì)。

      4 結(jié)語

      行星式雙面研磨機(jī)與普通研磨機(jī)相比具有結(jié)構(gòu)簡單、研磨力小、研磨溫度低、精度高、表面品質(zhì)高、加工穩(wěn)定、效益高等特點(diǎn)。解決了普通研磨中難以解決的許多工藝問題,特別是在難加工材料和難加工零件以及精密加工中,行星式研磨機(jī)構(gòu)更是顯示出其優(yōu)越的工藝效果。本次設(shè)計采用齒輪傳動的卡盤夾具式行星式雙面研磨機(jī)構(gòu),通過太陽輪的轉(zhuǎn)動來帶動多個行星輪的公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)運(yùn)動實現(xiàn)多個工件同時研磨。進(jìn)一步的運(yùn)動學(xué)幾何仿真驗證了不同速比下軌跡的變化情況,通過選擇合適的I 值可以得到更好的研磨效果,從而提高了研磨技術(shù)水平,保證研磨加工精度和加工品質(zhì),而且還可顯著降低加工成本,提高加工效率,使研磨技術(shù)進(jìn)一步實用化。

      [1]Su J X,Guo D M,Kang R K,etc.Modeling and Analyzing on Nonuniformity of Materia Removal in Chemical Mechanical Polishing of Silicon Wafer[J].Science Material Forum,2004,471~472:26~31.

      [2]王軍,孫軍,楊信偉.晶片行星式研磨拋光機(jī)運(yùn)動模擬的研究[J].機(jī)械設(shè)計與制造,2000 (2):55-56 .

      [3]吳宏基,曹利新,劉健.基于行星式平面研磨機(jī)研拋過程的運(yùn)動幾何學(xué)分析[J].機(jī)械工程學(xué)報,2002,38(6):144-147.

      [4]Wang Lijiang,et al.Investigation on zero-phase-difference vibration chip breaking[J].Chinese Journal of Mechanical Engineering,1990.3(1)50-57.

      [5]田業(yè)冰,金洙吉,康仁科,等.硅片自旋轉(zhuǎn)磨削的運(yùn)動幾何學(xué)分析[J].中國機(jī)械工程,2005,16(20):1798-1802.

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