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      直流電弧原子發(fā)射光譜法測(cè)定鈦和鈦合金中微量雜質(zhì)元素

      2014-11-20 05:14:00馬曉敏
      巖礦測(cè)試 2014年4期
      關(guān)鍵詞:緩沖劑分析線譜線

      王 輝,馬曉敏,鄭 偉,王 寬

      (西北有色金屬研究院,陜西西安710016)

      鈦具有硬度高、無磁性、耐高溫、抗腐蝕的優(yōu)良特性,在飛機(jī)制造、海洋工程等領(lǐng)域被廣泛利用。高純度鈦具有良好的可塑性[1],但當(dāng)有雜質(zhì)存在時(shí)變得脆而硬,因此需要對(duì)鈦及鈦合金中雜質(zhì)元素的含量進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)定[2-3],達(dá)到生產(chǎn)工藝中對(duì)雜質(zhì)含量進(jìn)行控制的目的。測(cè)定鈦及鈦合金中的雜質(zhì)元素,現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)方法是采用樣品蒸發(fā)溫度較高的直流電弧作為光源[4-7],攝譜儀測(cè)定,需要經(jīng)過顯影、定影、測(cè)量黑度等步驟,操作繁瑣,流程長,引入測(cè)量誤差加大。

      DC Arc原子發(fā)射光譜儀采用中階梯光柵和電荷耦合器件(CCD),組成了全譜直讀光譜儀(波長范圍200~800 nm),能更大限度地獲取光譜信息,便于進(jìn)行光譜干擾和譜線強(qiáng)度空間分布同時(shí)測(cè)量。分析試樣裝入下電極的小孔中,上電極為圓錐形頭,上下電極均為石墨電極,采用直流電弧陽極激發(fā),在燃弧過程中元素依次進(jìn)入分析間隙。本文通過選擇合適的激發(fā)條件,確定分析線,在譜線波長校正后一次激發(fā),建立了直流電弧(DC Arc)原子發(fā)射光譜同時(shí)測(cè)定鈦及鈦合金中錳錫鉻鎳鋁鉬釩銅鋯釔10種微量雜質(zhì)元素的分析方法。

      1 實(shí)驗(yàn)部分

      1.1 儀器及主要試劑

      Prodigy DC Arc原子發(fā)射光譜儀(美國Leeman公司,電壓220 V),檢測(cè)器為電荷耦合器件(CCD);實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)用Salsa軟件處理。

      鈦基體:TiO2(光譜純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司)。

      緩沖劑:碳粉(光譜純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司),氯化銀(光譜純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司)。

      雜質(zhì)元素:MnO2、SnO2、Al2O3、Ni2O3、Y2O3、ZrO2、CuO、V2O5、MoO3、Cr2O3均為光譜純?cè)噭?/p>

      1.2 樣品制備

      1.2.1 標(biāo)準(zhǔn)樣品的制備

      將一定量雜質(zhì)元素光譜純加入鈦基體,采用逐級(jí)稀釋法共制備5個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品,標(biāo)準(zhǔn)樣品中各雜質(zhì)元素的質(zhì)量濃度依次為:0.001%、0.003%、0.01%、0.03%和0.06%。將標(biāo)準(zhǔn)樣品與緩沖劑混合,磨勻,最后保存于干燥器中。

      1.2.2 分析樣品的制備

      稱量0.5000 g樣品,置于100 mL燒杯中,加30 mL鹽酸,在低溫電爐上加熱溶解,蒸干后轉(zhuǎn)入干凈瓷坩堝中,置于馬弗爐中900℃灼燒1 h,使其完全轉(zhuǎn)化為二氧化鈦。稱取0.4 g灼燒后的粉末樣品與0.4 g緩沖劑混勻研磨,備用。

      1.2.3 儀器測(cè)定

      由于環(huán)境溫度的改變、機(jī)械振動(dòng)等因素會(huì)造成光學(xué)系統(tǒng)的漂移,在實(shí)驗(yàn)前需要對(duì)檢測(cè)器波長位置進(jìn)行校正。本實(shí)驗(yàn)中,用含有待測(cè)元素的純物質(zhì)(或氧化物)逐一掃描,以確保分析線積分區(qū)域的準(zhǔn)確性。

      將標(biāo)準(zhǔn)樣品或分析樣品填充于石墨電極中,設(shè)定電流強(qiáng)度、電流激發(fā)時(shí)間、儀器檢測(cè)器的積分時(shí)間,直流電弧放電的功率正比于分析間隙的弧溫長度和電流強(qiáng)度,因此,在檢測(cè)過程中應(yīng)嚴(yán)格控制電極間距,起弧后緩慢調(diào)節(jié)上下電極間距,使之能精確保持在3 mm。

      實(shí)驗(yàn)中常用元素所選分析線見表1,用直線或者二次曲線擬合光信號(hào)強(qiáng)度和濃度的工作曲線。

      2 結(jié)果與討論

      2.1 分析線的選擇

      在儀器軟件譜線庫中可直接選擇待測(cè)元素較為靈敏的特征譜線作為分析線,在此過程中應(yīng)注意避免譜線干擾。譜線干擾主要有以下四類。

      第一類:鈦?zhàn)鳛榛w元素的譜線干擾。如V 318.398 nm有Ti 318.398 nm干擾,Cu 327.396 nm有Ti 327.405 nm干擾。

      第二類:鈦合金中添加的化學(xué)成分元素干擾。現(xiàn)行產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)[8]中涉及70多個(gè)鈦合金牌號(hào)。除工業(yè)純鈦外,其他各種鈦合金中均添加不同的少量化學(xué)成分元素,主要化學(xué)元素為 V、Cr、Zr、Al、Sn、Mo、Pd、Ni、Fe、W、Ta、Mn、Ru,這些元素含量雖然低(0.1% ~15%),但在光譜測(cè)定過程中會(huì)產(chǎn)生干擾。在不同鈦合金產(chǎn)品檢測(cè)過程中,應(yīng)依據(jù)牌號(hào)具體分析各種譜線干擾,如TC1、TC2、TA21中有Mn干擾,TC25中有W干擾,TC4中Al、V干擾。

      第三類:鐵譜線干擾。鐵在 TC23、TB3、TB4、TB6、TC6、TC10等合金中為添加元素(含量范圍0.2% ~ 2%),在工業(yè)純鈦、TA10、TA11、TA20、TB11、TC4、TC4ELI、TC11 等合金中為雜質(zhì)元素(含量<0.4%),其國家標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)方法為光度法和原子吸收光譜法[9],應(yīng)用直流電弧原子發(fā)射光譜法對(duì)光譜雜質(zhì)含量進(jìn)行檢測(cè)的過程中也需要考慮Fe譜線的干擾。

      第四類:雜質(zhì)元素之間的干擾。如分析線Al 308.216 nm有V 308.211 nm干擾。

      常用的分析線列于表1。

      表1 選用的分析線Table 1 The analytical wavelength of elements

      2.2 電極規(guī)格

      在直流電弧中,從陰極發(fā)射出的電子在電場(chǎng)作用下,高速轟擊陽極,在陽極端產(chǎn)生一個(gè)白熱的亮點(diǎn),稱為陽極斑點(diǎn),陽極斑點(diǎn)具有很高的溫度,有利于樣品的蒸發(fā)。電極形狀影響樣品的蒸發(fā),電極樣品孔壁厚,電極頭溫度較低,電極裝樣孔深,孔底溫度較低,有利于利用分餾效應(yīng)。此外,在相同電流條件下杯型電極比普通電極的相電極頭溫度高,因此,易揮發(fā)性物質(zhì)宜用厚壁深孔電極蒸發(fā),而難揮發(fā)性物質(zhì)宜用淺孔薄壁細(xì)頸杯形電極。本文所用電極為一種淺孔薄壁細(xì)頸杯形電極,規(guī)格如圖1所示。

      2.3 電流強(qiáng)度的選擇

      直流電弧放電的功率正比于分析間隙的弧柱長度和電流強(qiáng)度,因此在分析中可以通過提高電流強(qiáng)度提高放電功率,從而提高電極頭溫度使樣品被充分蒸發(fā)。電極頭溫度直接測(cè)量較難實(shí)現(xiàn)。較高的電極頭溫度有利于樣品孔內(nèi)樣品的蒸發(fā),增加元素進(jìn)入電弧的幾率從而增強(qiáng)譜線強(qiáng)度,可以通過樣品譜線強(qiáng)度間接考察電極頭溫度。

      本文考察了電流為 4、6、8、10、12、14、16、18 A時(shí),譜線的強(qiáng)度變化,如圖2所示。圖2a為 Mn 257.610 nm譜線強(qiáng)度隨電流強(qiáng)度變化曲線圖,當(dāng)譜線強(qiáng)度增加到最高值10 A后,隨著電流強(qiáng)度的增加,譜線強(qiáng)度信號(hào)有降低的趨勢(shì)??赡茈S著電流強(qiáng)度的增加,影響元素激發(fā)的因素作用明顯。V、Sn、Cr、Al與Mn的變化趨勢(shì)類似。圖2b為Ni 341.477 nm譜線強(qiáng)度隨電流強(qiáng)度變化曲線圖。當(dāng)譜線強(qiáng)度增加到最高值10 A后,隨著電流強(qiáng)度的增加,譜線強(qiáng)度在一定范圍波動(dòng),強(qiáng)度變化較小,Y、Cu、Mo、Zr與Ni變化趨勢(shì)類似。Cu、V、Ni、Cr、Y 在激發(fā)電流10 A 時(shí)到達(dá)最大值;Al、Sn、Mn、Mo在激發(fā)電流8 A時(shí)達(dá)到最大值;Zr較難激發(fā),在激發(fā)電流為14 A時(shí)達(dá)到最大。綜合考慮各元素分析線的信號(hào)強(qiáng)度,本文選擇激發(fā)電流為10 A。

      圖1 電極規(guī)格示意圖Fig.1 Schematic diagram of electrode specifications

      2.4 激發(fā)時(shí)間的影響

      用直流電弧激發(fā)試樣,以信號(hào)積分強(qiáng)度為縱坐標(biāo),以電流持續(xù)時(shí)間為橫坐標(biāo),繪制元素的時(shí)序曲線。元素以不同速率分若干次進(jìn)入弧柱,在300 s以后,所有元素譜線積分強(qiáng)度趨于穩(wěn)定,圖3中僅截取前200 s積分信號(hào)強(qiáng)度,可以清楚地看到各元素受激發(fā)的順序,Al 396.153 nm最先受到激發(fā),Zr 327.305 nm、Zr 284.852 nm、Cr 302.156 nm 和 Sn 317.502 nm均是容易蒸發(fā)元素,其信號(hào)都很強(qiáng),Mn 257.610 nm、Mn 279.827 nm、Ni 341.477 nm、Cu 213.598 nm和Cr 284.325 nm隨后蒸發(fā)。在激發(fā)時(shí)間為50~80 s時(shí),各元素譜線積分強(qiáng)度增加較快,開始以極快的速度進(jìn)入電弧間隙,因此電流激發(fā)時(shí)間和信號(hào)積分時(shí)間均設(shè)定為50 s。

      2.5 緩沖劑的影響

      圖2 分析譜線強(qiáng)度隨電流強(qiáng)度變化趨勢(shì)Fig.2 Effect of current value on the intensity of analytical line

      圖3 激發(fā)時(shí)間的影響Fig.3 Effect of excitation time

      按照鈦及鈦合金國家產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)方法要求,需要對(duì)10個(gè)雜質(zhì)元素的含量同時(shí)進(jìn)行檢測(cè)[2]。V、Sn、Cr、Al、Mn、Cu、Mo、Ni分析線靈敏度高,易選擇,且光譜干擾小,易建立工作曲線。Zr和Y是難被檢測(cè)元素,Zr屬于難熔金屬元素,很難被激發(fā)。Y元素譜線干擾多,2個(gè)元素的譜線強(qiáng)度都很弱。隨著濃度增加,譜線強(qiáng)度增加小,致使工作曲線斜率小,增大了樣品檢測(cè)誤差。因此在選擇緩沖劑時(shí),重點(diǎn)考察Zr和Y的光譜發(fā)射峰,以建立較好的工作曲線。

      碳粉是常用的光譜緩沖劑,有導(dǎo)電性,能夠穩(wěn)定孤焰,其作用是使各類鈦合金樣品的組成趨于一致并且容易控制蒸發(fā)和激發(fā)條件,減小合金基體化學(xué)成分的變化對(duì)被測(cè)元素譜線強(qiáng)度的影響,有利于提高分析結(jié)果的準(zhǔn)確度。

      實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)單純使用碳粉作緩沖劑,元素Y的三條濃度曲線(曲線1:0.003%;曲線2:0.01%;曲線3:0.03%)很難被激發(fā),其分析線信號(hào)較弱,且隨著元素濃度的增加,信號(hào)變化不大(見圖4a)。如果在碳粉中加入氯化銀載體可以促進(jìn)Y的蒸發(fā),在相同的電流強(qiáng)度(10 A)激發(fā)條件下,譜線信號(hào)明顯增加(見圖4b),工作曲線的線性較好。一般經(jīng)驗(yàn)認(rèn)為氯化銀可以使難揮發(fā)的難熔金屬元素(如Zr、Ti)轉(zhuǎn)變?yōu)橐讚]發(fā)的氯化物[10],改善蒸發(fā)條件,提高這些元素的譜線強(qiáng)度。但是圖5卻顯示出相反的結(jié)論,元素Zr的三條濃度曲線(曲線1:0.003%;曲線2:0.01%;曲線3:0.03%)由于使用氯化銀不僅引入氯離子,同時(shí)也引入了銀離子,所以降低了電離溫度及電弧溫度(碳粉的電弧溫度更高)[11],從而降低了Zr元素激發(fā)的幾率,這是Zr分析線的信號(hào)沒有增強(qiáng)反而降低的原因。且碳粉有利于Zr元素分析,氯化銀有利于Y元素分析。本實(shí)驗(yàn)中使用氯化銀和碳粉的混合物作緩沖劑(m氯化銀∶m碳粉=1∶1),工作曲線見圖6。

      2.6 工作曲線

      取少量1.3.1節(jié)配制的5個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品,各雜質(zhì)元素濃度依次為0.001%、0.003%、0.01%、0.03%和0.06%。每個(gè)濃度的標(biāo)準(zhǔn)樣品平行測(cè)定3次,取其平均值。用一次或二次方程擬合,在表1所列的分析線中,每一個(gè)元素選用一條分析線,并按譜線信號(hào)強(qiáng)度分為兩組,建立工作曲線。所有元素的標(biāo)準(zhǔn)曲線良好,線性相關(guān)系數(shù)均在0.972~0.999(見表2)。

      2.7 方法精密度和準(zhǔn)確度

      采用加標(biāo)回收的方法評(píng)價(jià)方法的精密度和準(zhǔn)確度,加標(biāo)量為0.020%,平行測(cè)定5次,分析結(jié)果見表3。回收率在90.0% ~110.0%之間。直流電弧弧柱在電極表面上不定地游動(dòng),導(dǎo)致樣品蒸發(fā)與弧柱內(nèi)組成隨時(shí)間發(fā)生變化,測(cè)定結(jié)果的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)最大值為13.0%,平均值為8.0%,重現(xiàn)性與其他分析方法相比較差,但是可以達(dá)到光譜常規(guī)分析精密度≤20%的要求[10-12]。

      圖4 緩沖劑對(duì)Y 332.788 nm發(fā)射強(qiáng)度的影響Fig.4 Effect of buffer composition on the excitation intensity of Y 332.788 nm

      表2 各元素分析線工作曲線的回歸方程及相關(guān)系數(shù)Table 2 The regression equations and correlation coefficients of the working curves for analytical lines

      表3 方法回收率與精密度Table 3 Recovery and precision tests of the method

      圖5 緩沖劑對(duì)Zr 284.825 nm發(fā)射強(qiáng)度的影響Fig.5 Effect of buffer composition on the excitation intensity of Zr 284.825 nm

      圖6 雜質(zhì)元素工作曲線Fig.6 Standard curves of impurity elements

      3 結(jié)語

      以直流電弧為激發(fā)光源,以CCD為檢測(cè)器,應(yīng)用DC Arc直流電弧原子發(fā)射光譜儀對(duì)鈦及鈦合金中多種雜質(zhì)元素進(jìn)行檢測(cè)。實(shí)驗(yàn)確定了合適的分析線,選擇激發(fā)電流為10 A,電流持續(xù)時(shí)間50 s,用氯化銀和碳粉的混合物作緩沖劑,以淺孔薄壁細(xì)頸杯形電極作工作電極進(jìn)行陽極激發(fā),通過一次曝光,可實(shí)現(xiàn)10種雜質(zhì)元素的同時(shí)檢測(cè)。元素的檢測(cè)范圍為0.001% ~0.06%,回收率為90.0% ~110.0%,相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差在15%以內(nèi),本方法適用于鈦及鈦合金中雜質(zhì)元素的快速測(cè)定。

      [1]周廉.美國、日本和中國鈦工業(yè)發(fā)展評(píng)述[J].稀有金屬材料與工程,2003,32(8):577-584.

      [2]GB/T 4698.21—1996,海綿鈦、鈦及鈦合金化學(xué)分析方法;發(fā)射光譜法測(cè)定錳、鉻、鎳、鋁、鉬、錫、釩、釔、銅、鋯量[S].

      [3]胡文珍.光譜法測(cè)定鈦及鈦合金中的微量雜質(zhì)元素[J].稀有金屬材料與工程,2000,29(1):64-67.

      [4]YS/T 558—2009,鉬的發(fā)射光譜分析方法[S].

      [5]YS/T 559—2009,鎢的發(fā)射光譜分析方法[S].

      [6]GB/T 15076.10—1994,鉭鈮化學(xué)分析方法;鈮中鐵、鎳、鉻、鋯、鋁和錳量的測(cè)定[S].

      [7]GB/T 15076.9—1994,鉭鈮化學(xué)分析方法;鉭中鐵、鉻、鎳、錳、鈦、鋁、銅、錫、鉛和鋯量的測(cè)定[S].

      [8]GB/T 3620.1—2007,鈦及鈦合金牌號(hào)和化學(xué)成分名[S].

      [9]GB/T 4698.2—2011,海綿鈦、鈦及鈦合金化學(xué)分析方法;鐵量的測(cè)定[S].

      [10]劉密新,羅國安,張新榮,童愛軍.儀器分析[M].北京:清華大學(xué)出版社,2002:47-48.

      [11]徐秋心,李國華,肖心甲,楊麗華,趙登云.實(shí)用發(fā)射光譜分析[M].成都:四川科學(xué)技術(shù)出版社,1993:159-161.

      [12]施平.發(fā)射光譜法測(cè)定金屬鈷中的16個(gè)元素[J].分析試驗(yàn)室,2000,19(4):50-52.

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