王 輝,馬曉敏,鄭 偉,王 寬
(西北有色金屬研究院,陜西西安710016)
鈦具有硬度高、無磁性、耐高溫、抗腐蝕的優(yōu)良特性,在飛機(jī)制造、海洋工程等領(lǐng)域被廣泛利用。高純度鈦具有良好的可塑性[1],但當(dāng)有雜質(zhì)存在時(shí)變得脆而硬,因此需要對(duì)鈦及鈦合金中雜質(zhì)元素的含量進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)定[2-3],達(dá)到生產(chǎn)工藝中對(duì)雜質(zhì)含量進(jìn)行控制的目的。測(cè)定鈦及鈦合金中的雜質(zhì)元素,現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)方法是采用樣品蒸發(fā)溫度較高的直流電弧作為光源[4-7],攝譜儀測(cè)定,需要經(jīng)過顯影、定影、測(cè)量黑度等步驟,操作繁瑣,流程長,引入測(cè)量誤差加大。
DC Arc原子發(fā)射光譜儀采用中階梯光柵和電荷耦合器件(CCD),組成了全譜直讀光譜儀(波長范圍200~800 nm),能更大限度地獲取光譜信息,便于進(jìn)行光譜干擾和譜線強(qiáng)度空間分布同時(shí)測(cè)量。分析試樣裝入下電極的小孔中,上電極為圓錐形頭,上下電極均為石墨電極,采用直流電弧陽極激發(fā),在燃弧過程中元素依次進(jìn)入分析間隙。本文通過選擇合適的激發(fā)條件,確定分析線,在譜線波長校正后一次激發(fā),建立了直流電弧(DC Arc)原子發(fā)射光譜同時(shí)測(cè)定鈦及鈦合金中錳錫鉻鎳鋁鉬釩銅鋯釔10種微量雜質(zhì)元素的分析方法。
Prodigy DC Arc原子發(fā)射光譜儀(美國Leeman公司,電壓220 V),檢測(cè)器為電荷耦合器件(CCD);實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)用Salsa軟件處理。
鈦基體:TiO2(光譜純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司)。
緩沖劑:碳粉(光譜純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司),氯化銀(光譜純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司)。
雜質(zhì)元素:MnO2、SnO2、Al2O3、Ni2O3、Y2O3、ZrO2、CuO、V2O5、MoO3、Cr2O3均為光譜純?cè)噭?/p>
1.2.1 標(biāo)準(zhǔn)樣品的制備
將一定量雜質(zhì)元素光譜純加入鈦基體,采用逐級(jí)稀釋法共制備5個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品,標(biāo)準(zhǔn)樣品中各雜質(zhì)元素的質(zhì)量濃度依次為:0.001%、0.003%、0.01%、0.03%和0.06%。將標(biāo)準(zhǔn)樣品與緩沖劑混合,磨勻,最后保存于干燥器中。
1.2.2 分析樣品的制備
稱量0.5000 g樣品,置于100 mL燒杯中,加30 mL鹽酸,在低溫電爐上加熱溶解,蒸干后轉(zhuǎn)入干凈瓷坩堝中,置于馬弗爐中900℃灼燒1 h,使其完全轉(zhuǎn)化為二氧化鈦。稱取0.4 g灼燒后的粉末樣品與0.4 g緩沖劑混勻研磨,備用。
1.2.3 儀器測(cè)定
由于環(huán)境溫度的改變、機(jī)械振動(dòng)等因素會(huì)造成光學(xué)系統(tǒng)的漂移,在實(shí)驗(yàn)前需要對(duì)檢測(cè)器波長位置進(jìn)行校正。本實(shí)驗(yàn)中,用含有待測(cè)元素的純物質(zhì)(或氧化物)逐一掃描,以確保分析線積分區(qū)域的準(zhǔn)確性。
將標(biāo)準(zhǔn)樣品或分析樣品填充于石墨電極中,設(shè)定電流強(qiáng)度、電流激發(fā)時(shí)間、儀器檢測(cè)器的積分時(shí)間,直流電弧放電的功率正比于分析間隙的弧溫長度和電流強(qiáng)度,因此,在檢測(cè)過程中應(yīng)嚴(yán)格控制電極間距,起弧后緩慢調(diào)節(jié)上下電極間距,使之能精確保持在3 mm。
實(shí)驗(yàn)中常用元素所選分析線見表1,用直線或者二次曲線擬合光信號(hào)強(qiáng)度和濃度的工作曲線。
在儀器軟件譜線庫中可直接選擇待測(cè)元素較為靈敏的特征譜線作為分析線,在此過程中應(yīng)注意避免譜線干擾。譜線干擾主要有以下四類。
第一類:鈦?zhàn)鳛榛w元素的譜線干擾。如V 318.398 nm有Ti 318.398 nm干擾,Cu 327.396 nm有Ti 327.405 nm干擾。
第二類:鈦合金中添加的化學(xué)成分元素干擾。現(xiàn)行產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)[8]中涉及70多個(gè)鈦合金牌號(hào)。除工業(yè)純鈦外,其他各種鈦合金中均添加不同的少量化學(xué)成分元素,主要化學(xué)元素為 V、Cr、Zr、Al、Sn、Mo、Pd、Ni、Fe、W、Ta、Mn、Ru,這些元素含量雖然低(0.1% ~15%),但在光譜測(cè)定過程中會(huì)產(chǎn)生干擾。在不同鈦合金產(chǎn)品檢測(cè)過程中,應(yīng)依據(jù)牌號(hào)具體分析各種譜線干擾,如TC1、TC2、TA21中有Mn干擾,TC25中有W干擾,TC4中Al、V干擾。
第三類:鐵譜線干擾。鐵在 TC23、TB3、TB4、TB6、TC6、TC10等合金中為添加元素(含量范圍0.2% ~ 2%),在工業(yè)純鈦、TA10、TA11、TA20、TB11、TC4、TC4ELI、TC11 等合金中為雜質(zhì)元素(含量<0.4%),其國家標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)方法為光度法和原子吸收光譜法[9],應(yīng)用直流電弧原子發(fā)射光譜法對(duì)光譜雜質(zhì)含量進(jìn)行檢測(cè)的過程中也需要考慮Fe譜線的干擾。
第四類:雜質(zhì)元素之間的干擾。如分析線Al 308.216 nm有V 308.211 nm干擾。
常用的分析線列于表1。
表1 選用的分析線Table 1 The analytical wavelength of elements
在直流電弧中,從陰極發(fā)射出的電子在電場(chǎng)作用下,高速轟擊陽極,在陽極端產(chǎn)生一個(gè)白熱的亮點(diǎn),稱為陽極斑點(diǎn),陽極斑點(diǎn)具有很高的溫度,有利于樣品的蒸發(fā)。電極形狀影響樣品的蒸發(fā),電極樣品孔壁厚,電極頭溫度較低,電極裝樣孔深,孔底溫度較低,有利于利用分餾效應(yīng)。此外,在相同電流條件下杯型電極比普通電極的相電極頭溫度高,因此,易揮發(fā)性物質(zhì)宜用厚壁深孔電極蒸發(fā),而難揮發(fā)性物質(zhì)宜用淺孔薄壁細(xì)頸杯形電極。本文所用電極為一種淺孔薄壁細(xì)頸杯形電極,規(guī)格如圖1所示。
直流電弧放電的功率正比于分析間隙的弧柱長度和電流強(qiáng)度,因此在分析中可以通過提高電流強(qiáng)度提高放電功率,從而提高電極頭溫度使樣品被充分蒸發(fā)。電極頭溫度直接測(cè)量較難實(shí)現(xiàn)。較高的電極頭溫度有利于樣品孔內(nèi)樣品的蒸發(fā),增加元素進(jìn)入電弧的幾率從而增強(qiáng)譜線強(qiáng)度,可以通過樣品譜線強(qiáng)度間接考察電極頭溫度。
本文考察了電流為 4、6、8、10、12、14、16、18 A時(shí),譜線的強(qiáng)度變化,如圖2所示。圖2a為 Mn 257.610 nm譜線強(qiáng)度隨電流強(qiáng)度變化曲線圖,當(dāng)譜線強(qiáng)度增加到最高值10 A后,隨著電流強(qiáng)度的增加,譜線強(qiáng)度信號(hào)有降低的趨勢(shì)??赡茈S著電流強(qiáng)度的增加,影響元素激發(fā)的因素作用明顯。V、Sn、Cr、Al與Mn的變化趨勢(shì)類似。圖2b為Ni 341.477 nm譜線強(qiáng)度隨電流強(qiáng)度變化曲線圖。當(dāng)譜線強(qiáng)度增加到最高值10 A后,隨著電流強(qiáng)度的增加,譜線強(qiáng)度在一定范圍波動(dòng),強(qiáng)度變化較小,Y、Cu、Mo、Zr與Ni變化趨勢(shì)類似。Cu、V、Ni、Cr、Y 在激發(fā)電流10 A 時(shí)到達(dá)最大值;Al、Sn、Mn、Mo在激發(fā)電流8 A時(shí)達(dá)到最大值;Zr較難激發(fā),在激發(fā)電流為14 A時(shí)達(dá)到最大。綜合考慮各元素分析線的信號(hào)強(qiáng)度,本文選擇激發(fā)電流為10 A。
圖1 電極規(guī)格示意圖Fig.1 Schematic diagram of electrode specifications
用直流電弧激發(fā)試樣,以信號(hào)積分強(qiáng)度為縱坐標(biāo),以電流持續(xù)時(shí)間為橫坐標(biāo),繪制元素的時(shí)序曲線。元素以不同速率分若干次進(jìn)入弧柱,在300 s以后,所有元素譜線積分強(qiáng)度趨于穩(wěn)定,圖3中僅截取前200 s積分信號(hào)強(qiáng)度,可以清楚地看到各元素受激發(fā)的順序,Al 396.153 nm最先受到激發(fā),Zr 327.305 nm、Zr 284.852 nm、Cr 302.156 nm 和 Sn 317.502 nm均是容易蒸發(fā)元素,其信號(hào)都很強(qiáng),Mn 257.610 nm、Mn 279.827 nm、Ni 341.477 nm、Cu 213.598 nm和Cr 284.325 nm隨后蒸發(fā)。在激發(fā)時(shí)間為50~80 s時(shí),各元素譜線積分強(qiáng)度增加較快,開始以極快的速度進(jìn)入電弧間隙,因此電流激發(fā)時(shí)間和信號(hào)積分時(shí)間均設(shè)定為50 s。
圖2 分析譜線強(qiáng)度隨電流強(qiáng)度變化趨勢(shì)Fig.2 Effect of current value on the intensity of analytical line
圖3 激發(fā)時(shí)間的影響Fig.3 Effect of excitation time
按照鈦及鈦合金國家產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)方法要求,需要對(duì)10個(gè)雜質(zhì)元素的含量同時(shí)進(jìn)行檢測(cè)[2]。V、Sn、Cr、Al、Mn、Cu、Mo、Ni分析線靈敏度高,易選擇,且光譜干擾小,易建立工作曲線。Zr和Y是難被檢測(cè)元素,Zr屬于難熔金屬元素,很難被激發(fā)。Y元素譜線干擾多,2個(gè)元素的譜線強(qiáng)度都很弱。隨著濃度增加,譜線強(qiáng)度增加小,致使工作曲線斜率小,增大了樣品檢測(cè)誤差。因此在選擇緩沖劑時(shí),重點(diǎn)考察Zr和Y的光譜發(fā)射峰,以建立較好的工作曲線。
碳粉是常用的光譜緩沖劑,有導(dǎo)電性,能夠穩(wěn)定孤焰,其作用是使各類鈦合金樣品的組成趨于一致并且容易控制蒸發(fā)和激發(fā)條件,減小合金基體化學(xué)成分的變化對(duì)被測(cè)元素譜線強(qiáng)度的影響,有利于提高分析結(jié)果的準(zhǔn)確度。
實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)單純使用碳粉作緩沖劑,元素Y的三條濃度曲線(曲線1:0.003%;曲線2:0.01%;曲線3:0.03%)很難被激發(fā),其分析線信號(hào)較弱,且隨著元素濃度的增加,信號(hào)變化不大(見圖4a)。如果在碳粉中加入氯化銀載體可以促進(jìn)Y的蒸發(fā),在相同的電流強(qiáng)度(10 A)激發(fā)條件下,譜線信號(hào)明顯增加(見圖4b),工作曲線的線性較好。一般經(jīng)驗(yàn)認(rèn)為氯化銀可以使難揮發(fā)的難熔金屬元素(如Zr、Ti)轉(zhuǎn)變?yōu)橐讚]發(fā)的氯化物[10],改善蒸發(fā)條件,提高這些元素的譜線強(qiáng)度。但是圖5卻顯示出相反的結(jié)論,元素Zr的三條濃度曲線(曲線1:0.003%;曲線2:0.01%;曲線3:0.03%)由于使用氯化銀不僅引入氯離子,同時(shí)也引入了銀離子,所以降低了電離溫度及電弧溫度(碳粉的電弧溫度更高)[11],從而降低了Zr元素激發(fā)的幾率,這是Zr分析線的信號(hào)沒有增強(qiáng)反而降低的原因。且碳粉有利于Zr元素分析,氯化銀有利于Y元素分析。本實(shí)驗(yàn)中使用氯化銀和碳粉的混合物作緩沖劑(m氯化銀∶m碳粉=1∶1),工作曲線見圖6。
取少量1.3.1節(jié)配制的5個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品,各雜質(zhì)元素濃度依次為0.001%、0.003%、0.01%、0.03%和0.06%。每個(gè)濃度的標(biāo)準(zhǔn)樣品平行測(cè)定3次,取其平均值。用一次或二次方程擬合,在表1所列的分析線中,每一個(gè)元素選用一條分析線,并按譜線信號(hào)強(qiáng)度分為兩組,建立工作曲線。所有元素的標(biāo)準(zhǔn)曲線良好,線性相關(guān)系數(shù)均在0.972~0.999(見表2)。
采用加標(biāo)回收的方法評(píng)價(jià)方法的精密度和準(zhǔn)確度,加標(biāo)量為0.020%,平行測(cè)定5次,分析結(jié)果見表3。回收率在90.0% ~110.0%之間。直流電弧弧柱在電極表面上不定地游動(dòng),導(dǎo)致樣品蒸發(fā)與弧柱內(nèi)組成隨時(shí)間發(fā)生變化,測(cè)定結(jié)果的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)最大值為13.0%,平均值為8.0%,重現(xiàn)性與其他分析方法相比較差,但是可以達(dá)到光譜常規(guī)分析精密度≤20%的要求[10-12]。
圖4 緩沖劑對(duì)Y 332.788 nm發(fā)射強(qiáng)度的影響Fig.4 Effect of buffer composition on the excitation intensity of Y 332.788 nm
表2 各元素分析線工作曲線的回歸方程及相關(guān)系數(shù)Table 2 The regression equations and correlation coefficients of the working curves for analytical lines
表3 方法回收率與精密度Table 3 Recovery and precision tests of the method
圖5 緩沖劑對(duì)Zr 284.825 nm發(fā)射強(qiáng)度的影響Fig.5 Effect of buffer composition on the excitation intensity of Zr 284.825 nm
圖6 雜質(zhì)元素工作曲線Fig.6 Standard curves of impurity elements
以直流電弧為激發(fā)光源,以CCD為檢測(cè)器,應(yīng)用DC Arc直流電弧原子發(fā)射光譜儀對(duì)鈦及鈦合金中多種雜質(zhì)元素進(jìn)行檢測(cè)。實(shí)驗(yàn)確定了合適的分析線,選擇激發(fā)電流為10 A,電流持續(xù)時(shí)間50 s,用氯化銀和碳粉的混合物作緩沖劑,以淺孔薄壁細(xì)頸杯形電極作工作電極進(jìn)行陽極激發(fā),通過一次曝光,可實(shí)現(xiàn)10種雜質(zhì)元素的同時(shí)檢測(cè)。元素的檢測(cè)范圍為0.001% ~0.06%,回收率為90.0% ~110.0%,相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差在15%以內(nèi),本方法適用于鈦及鈦合金中雜質(zhì)元素的快速測(cè)定。
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