鞏建輝,騫龍江,王晨豐
(商洛職業(yè)技術(shù)學(xué)院機(jī)電工程系,陜西 商洛726000)
超聲相控陣技術(shù)是通過(guò)調(diào)整陣列不同位置陣元的輻射聲信號(hào)的相位,從而實(shí)現(xiàn)陣列輻射聲場(chǎng)的偏轉(zhuǎn)和聚焦[1]。由于該技術(shù)能夠方便、靈活的控制聲束的聚焦位置,所以被廣泛的應(yīng)用于醫(yī)學(xué)的診斷和治療、無(wú)損檢測(cè)等領(lǐng)域,對(duì)相控陣聲場(chǎng)的研究是相控陣技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ),也是眾多學(xué)者關(guān)注的熱點(diǎn)。1998年Wooh研究了相控線陣的聲壓分布,并討論了線陣的設(shè)計(jì)參數(shù)[2-3];2002年Song利用瑞利積分和駐相法,得到了相控陣發(fā)射聲場(chǎng)的表達(dá)式[4];2009年Zhao提出了非近軸多元高斯模型,計(jì)算了控陣發(fā)射聲場(chǎng)[5];這些方法相對(duì)復(fù)雜,不夠直觀。
此研究以矩形陣元輻射的聲場(chǎng)為基礎(chǔ),依據(jù)Huygen’s原理和聚焦、偏轉(zhuǎn)法則[6],計(jì)算了基于矩形陣元的相控陣的聲場(chǎng)分布表達(dá)式,利用Matlab軟件繪制了其三維和二維的聲壓分布圖,并分析討論了陣元的寬度、間距、數(shù)目等參數(shù)對(duì)相控陣聲場(chǎng)的影響。
這里以矩形活塞聲源為陣元構(gòu)成一維線陣,以陣列中心O為原點(diǎn),陣列長(zhǎng)度方向?yàn)閤軸,寬度方向?yàn)閥軸建立直角坐標(biāo)系如圖1所示。陣元的寬度為w,長(zhǎng)度為l,相鄰兩陣元中心間隔距離為d.設(shè)P為聲場(chǎng)中的任意一點(diǎn),P′為P在xoy平面的投影點(diǎn),P與z軸的夾角為θ,P′O與x軸的夾角為φ.陣列由N個(gè)陣元組成,最左邊的陣元編號(hào)為0,最右邊的為N-1.
圖1 相控陣的結(jié)構(gòu)
對(duì)于單個(gè)矩形陣元,輻射聲場(chǎng)的聲壓表達(dá)式為[7]
其中 k、ρ、c、u分別表示波數(shù)、媒質(zhì)密度、波速、振源的振速。依據(jù)Huygen’s原理,一維相控線陣輻射的聲場(chǎng)為每個(gè)矩形陣元輻射聲場(chǎng)的疊加,則該一維相控線陣聲場(chǎng)的聲壓表達(dá)式為
其中rn為第n個(gè)陣元中心到任意場(chǎng)點(diǎn)P的距離,由幾何關(guān)系可得到:
由相控偏轉(zhuǎn)陣聚焦法則,可得第n個(gè)陣元相對(duì)于第0個(gè)陣元的輻射時(shí)間延遲為[8]
其中θp為相控陣聲束的偏轉(zhuǎn)角度,F(xiàn)為焦距(即陣列中心到焦點(diǎn)的距離)。
以 Matlab 軟件為工具,根據(jù)表達(dá)式(2)、(3)、(4)對(duì)一維相控陣偏轉(zhuǎn)聚焦聲場(chǎng)進(jìn)行仿真[9-10]。取頻率f=3 MHz,陣元寬度w=0.8 mm,陣元長(zhǎng)度l=8 mm,陣元中心間距為d=0.85 mm,陣元振速u=1 000 m/s,聲速 c=5 000 m/s,介質(zhì)密度 ρ=7.8 × 103kg/m3,陣元數(shù) N=32,θp=pi/6,焦距 F=0.5 m,聲場(chǎng)仿真的結(jié)果如圖2所示。
圖2 相控陣的聲壓分布
圖2 中的(a)為相控陣三維聲壓分布圖,(b)為(a)的俯視圖,從圖可以看出聲場(chǎng)的能量主要集中在φ=0的位置,其中在φ=0,θp=pi/6的位置,聲壓最高,也就是焦點(diǎn)位置,這正是給陣元延時(shí)后的偏轉(zhuǎn)聚焦效果。
為了獲得良好的聚焦效果,下面分析討論相控陣的參數(shù)對(duì)輻射聲場(chǎng)的影響,為了研究觀察方便,讓?duì)?0即可得到xoz平面上聲壓的分布。
取頻率f=5 MHz,陣元寬度w=0.3 mm,陣元長(zhǎng)度l=2 mm,陣元振速u=1 000 m/s,聲速c=6 320 m/s,介質(zhì)密度 ρ=7.8×103kg/m3,陣元數(shù) N=65,焦距F=0.05 m,θp=0陣元中心間距d分別取0.4 mm,0.8 mm,0.12 mm所得的聲壓分布如圖3(a),(b),(c)所示,由圖可以看出,焦點(diǎn)在預(yù)計(jì)位置,其坐標(biāo)為(0,0.05 m),在保持其他參量不變的情況下,隨著陣元中心間距d的增大,焦點(diǎn)區(qū)域逐漸縮小,聚焦性能變強(qiáng),但是不是d越大越好,d值過(guò)大,就會(huì)出現(xiàn)柵瓣,能量就會(huì)分散,這樣在相控陣成像系統(tǒng)中將會(huì)使成像的質(zhì)量變差[11]。
圖3 聲壓分布隨陣元間距的變化
陣元間距d取0.6 mm,偏轉(zhuǎn)角度θp=pi/6,焦點(diǎn)坐標(biāo)為(0.03 m,0.05 m),陣元數(shù) N 分別取 33,65,129,其他參數(shù)不變,所得的聲壓分布如圖 4(a),(b),(c)所示。
圖4 聲壓分布隨陣元個(gè)數(shù)的變化
由圖可以看出,經(jīng)相控偏轉(zhuǎn)聚焦后,焦點(diǎn)在預(yù)計(jì)位置,在保持其他參量不變的情況下,隨著陣元個(gè)數(shù)N的增大,焦點(diǎn)區(qū)域逐漸縮小,聚焦性增強(qiáng),使主聲束能量增加,相控陣成像系統(tǒng)而言,可以提高空間成像的分辨率[12],但是不能過(guò)多的增加陣元個(gè)數(shù),否則將會(huì)使成像系統(tǒng)過(guò)于復(fù)雜。
陣元間距d取0.9 mm,陣元數(shù)N取33,偏轉(zhuǎn)角度 θp=pi/6,焦點(diǎn)坐標(biāo)為(0.03 m,0.05 m),陣元寬度w分別取0.2 mm,0.6 mm,0.8 mm,其他參數(shù)不變,所得的聲壓分布如圖 5(a),(b),(c)所示。
由圖可以看出,經(jīng)相控偏轉(zhuǎn)聚焦后,隨著陣元寬度的增大,對(duì)主聲束的影響不大,但是焦點(diǎn)區(qū)域的聲壓略有增加,柵瓣則不斷的減小,因此在相控陣應(yīng)用中,在調(diào)好陣元間距的情況下,使陣元寬度僅可能大[13],但始終不能大于間距。
陣元間距d取0.8 mm,陣元寬度w取0.5 mm,偏轉(zhuǎn)角度θp=0,陣元數(shù)N取33,焦距分別取0.03 m,0.06 m,0.08 m,對(duì)應(yīng)焦點(diǎn)坐標(biāo)為(0,0.02 m),(0,0.05 m),(0,0.08 m)其他參數(shù)不變,所得的聲壓分布如圖6(a),(b),(c)所示。
圖6 聲壓分布隨焦距的變化
由圖可以看出,在保持相控陣幾何參數(shù)不變的情況下,隨著焦距的增大,焦點(diǎn)區(qū)域不斷變大,在大于0.06 m的區(qū)域里,聚焦性能變差,其中(a)的聚焦效果最優(yōu),當(dāng)然焦距也不能小于近場(chǎng)檢測(cè)區(qū)域的最小值,因此在相控陣應(yīng)用中,應(yīng)該結(jié)合相控陣系統(tǒng)的多項(xiàng)指標(biāo)合理的選擇焦距。
以矩形活塞聲源輻射設(shè)聲場(chǎng)理論為基礎(chǔ),利用Huygen’s疊加原理,得到了基于矩形活塞陣元的一維相控線陣聲壓分布表達(dá)式。對(duì)相控線陣輻射聲場(chǎng)進(jìn)行了仿真和分析,得出以下結(jié)論:利用Matlab軟件對(duì)相控線陣聲場(chǎng)可視化,依據(jù)三維、二維聲壓分布圖,能夠直觀的了解相控陣聲場(chǎng)的特點(diǎn),便于對(duì)相控陣聲場(chǎng)的研究;隨著陣元間距的增大,焦點(diǎn)區(qū)域逐漸縮小,但會(huì)出現(xiàn)柵瓣;陣元數(shù)目增加,聚焦性能增強(qiáng);陣元的寬度對(duì)主聲束的影響不大,但對(duì)柵瓣影響明顯;焦距超過(guò)一定值時(shí),聚焦效果明顯變差,應(yīng)結(jié)合系統(tǒng)參數(shù),合理選取焦距。此研究為超聲相控陣的設(shè)計(jì),提供了理論參考,有一定的實(shí)際意義。