孟 巖

（新疆醫(yī)科大學第一附屬醫(yī)院影像中心CT室 新疆 烏魯木齊 830000）

上頜竇內(nèi)提升對上頜竇底黏膜的影響:基于CBCT的影像學研究

孟 巖

（新疆醫(yī)科大學第一附屬醫(yī)院影像中心CT室 新疆 烏魯木齊 830000）

目的：通過CBCT影像學手段，測量和分析上頜竇內(nèi)提升術(shù)對上頜竇黏膜的影響。方法：納入因上頜后牙缺失行上頜竇內(nèi)提升術(shù)的25例患者共36側(cè)上頜竇。其中男11例，女14例，平均年齡(45.32±11.34)歲。結(jié)果：術(shù)前上頜竇底黏膜厚度0.65～3.56mm,平均(0.45±0.55)mm，術(shù)后上頜竇底黏膜厚度2.31～6.54mm，平均（3.64±1.02）mm，術(shù)后黏膜厚度較術(shù)前顯著增加，差異具有顯著性（P＜0.05）。結(jié)論：上頜竇內(nèi)提升術(shù)可導致術(shù)后上頜竇黏膜的暫時性增厚，但未對預后產(chǎn)生明顯影響。

上頜竇內(nèi)提升；上頜竇黏膜；CBCT；影像學研究；種植體

上頜后牙區(qū)在牙缺失后由于上頜竇腔的不斷氣化和牙槽骨的病理和廢用性吸收，而導致這一區(qū)域牙齒種植修復所需的垂直骨量不足。上頜竇提升技術(shù)的產(chǎn)生有效地解決了這一問題，然而，這一手術(shù)成功的關(guān)鍵是在植骨的同時保證上頜竇黏膜的完整。上頜竇竇壁內(nèi)襯一層厚0.13～1.0mm的黏膜，該層黏膜又被稱Schneiderian膜，其結(jié)構(gòu)組成與其他呼吸道黏膜相似，但其厚度較鼻腔黏膜薄，血供也差。正常的上頜竇黏膜有一定的抗撕裂、抗拉能力。因此，能夠耐受提升、剝離等外科手術(shù)操作[1]。然而，以往由于X線等平片影像檢查手段的限制，無法對上頜竇黏膜在上頜竇提升手術(shù)的改變進行準確評價，CBCT的產(chǎn)生能夠準確評價上頜竇的黏膜情況及術(shù)后的生理變化[2]。本研究的目的旨在通過CBCT影像學手段，分析上頜竇內(nèi)提升對上頜竇黏膜的影響，以期對臨床工作提供指導。

1 資料和方法

1.1 病例資料：選擇2014年1月-2015年7月在新疆醫(yī)科大學附屬第一醫(yī)院影像科就診，因上頜后牙缺失行上頜竇內(nèi)提升術(shù)的25例患者，共36側(cè)上頜竇，其中男11例，女14例，平均年齡（45.32±11.34）歲。納入標準：①上頜后牙缺失大于3個月；②上頜竇內(nèi)無急慢性炎癥；③年齡大于18歲。

1.2 影像測量：所有患者于術(shù)前、術(shù)后即刻拍攝CBCT，影像學檢查采用CBCT(西諾德,德國)。CBCT掃描參數(shù)：電壓85kv，電流5.0～7.0mA，掃描時間16s，掃描層厚0.1mm。將CBCT檢查獲得的DICOM文件導入Simplant軟件，測量缺牙區(qū)上頜竇底最低點的黏膜厚度，分別在矢狀面中線、冠狀面中線處測量最低點黏膜厚度后取平均值[3]。術(shù)前第一次測量時記錄掃描層數(shù)以確保術(shù)后測量的精確性，保證術(shù)前、術(shù)后上頜竇測量位點的一致性。

1.3 統(tǒng)計學分析：所有測量數(shù)據(jù)均錄入SPSS18.0，計量資料采用均值±標準差表示，對于不同時期上頜竇黏膜厚度的比較采用獨立樣本t檢驗；P為雙側(cè)概率，小于0.05表示有統(tǒng)計學意義。

2 結(jié)果

影像學測量結(jié)果：通過對25例患者36側(cè)上頜竇黏膜測量和觀察分析后可見，術(shù)前黏膜厚度0.65～3.56mm，平均（1.45±0.55）mm，術(shù)后上頜竇黏膜厚度2.31～6.54mm，平均（3.64±1.02）mm。術(shù)后黏膜厚度較術(shù)前增加明顯，差異具有顯著性(P＜0.01)。見圖1。

圖1 上頜竇內(nèi)提升術(shù)后不同時期黏膜厚度變化

3 討論

上頜竇內(nèi)提升術(shù)是通過配套的系列骨鑿敲擊并抬起上頜竇底部的皮質(zhì)骨板，在保證上頜竇黏膜完整的情況下通過植骨材料、血液等混合產(chǎn)生的液壓力提升上頜竇底，進而滿足種植體植入所需的垂直骨高度。由于在術(shù)中無法直視上頜竇底的解剖及黏膜情況，在提升過高、敲擊力量過大、竇底解剖復雜等情況下，黏膜有可能撕裂，使得植骨材料進入上頜竇內(nèi)，引起上頜竇的急慢性炎癥[4-5]。因此,對于術(shù)前上頜竇黏膜的健康狀態(tài)需要客觀地評價與風險評估。在以往的上頜竇手術(shù)中，多采用全口曲面斷層片等二維影像手段測量上頜竇的竇嵴距及上頜后牙區(qū)的骨質(zhì)情況，但其存在一定的放大失真率，同時容易遺漏上頜竇黏膜的病理狀態(tài)，增加了術(shù)后并發(fā)癥的發(fā)生幾率[6]。CBCT具有較低的放射劑量，可以獲得真實的上頜竇內(nèi)復雜的解剖形態(tài)，如：竇底斜坡、縱膈的存在、上頜竇黏膜及上頜竇內(nèi)存在的血管等。在本研究中，筆者首先通過CBCT測量25例患者術(shù)前的上頜竇底黏膜厚度，其平均厚度為（1.45±0.55）mm，最小黏膜厚度0.65mm，最大黏膜厚度3.56mm。這一測量結(jié)果接近于其他學者的CT測量結(jié)果，然而卻高于尸體標本的測量，造成這種差異的原因可能是CBCT的測量誤差，大多數(shù)患者缺失牙在拔除前均存在不同程度的根尖炎癥導致黏膜受刺激而增厚。已經(jīng)有研究表明，不健康的牙齒大多數(shù)伴有上頜竇黏膜的增厚，即使在患牙拔除后黏膜厚度仍無法恢復正常[7]。Pommer在一項研究中對20具尸體上頜竇黏膜厚度測量后發(fā)現(xiàn)，上頜竇平均黏膜厚度為（0.1±0.05）mm[8]。對于影像學上正常的上頜竇黏膜厚度的閾值尚存在爭議，而大部分研究都將2mm作為一個參考。上頜竇黏膜的厚度存在很大的個體差異，Janner[9]通過CBCT測量143例患者的上頜竇黏膜，最小值0.2mm。而最大值達到了34.6mm。在本研究中，黏膜厚度的個體差異并不明顯，這與本實驗的納入標準有關(guān)，為了降低沖壓術(shù)中的黏膜穿孔風險，術(shù)前過厚的上頜竇黏膜將會轉(zhuǎn)診到耳鼻喉科行進一步治療。

對上頜竇內(nèi)提升術(shù)前、術(shù)后的上頜竇黏膜測量分析后發(fā)現(xiàn)，術(shù)后即刻均出現(xiàn)了上頜竇黏膜的腫脹，而這一腫脹并不局限于術(shù)區(qū)周圍，通常表現(xiàn)為整個上頜竇底的腫脹。uirynen等[10]在上頜竇內(nèi)提升后同樣觀察到黏膜一過性增厚的現(xiàn)象。盡管從影像學上觀察到了黏膜增厚明顯，本實驗中，25例患者在術(shù)中鼓氣實驗均為陰性，且患者術(shù)后均發(fā)生鼻腔出血、上頜竇內(nèi)急性感染等情況。術(shù)后黏膜增厚的具體原因尚不清楚，沖壓術(shù)中黏膜與骨板的分離以及骨代用品與黏膜的直接接觸可能對黏膜產(chǎn)生直接刺激，而這一刺激可能會導致黏膜的腫脹。CBCT上黏膜腫脹處抬起的上頜竇底皮質(zhì)骨界限清晰，提示腫脹可能發(fā)生在黏膜本身而非出血所致。但這一腫脹對上頜竇內(nèi)的生理功能及最終修復結(jié)果暫無明顯影響。

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編輯/李陽利

Inf l uences of Internal Sinus Elevation on Sinus Membrane:CBCT Based Radiographically Evaluation

MENG Yan
(CT room in Medical Image Center, the First Afflliated Hospital of Xinjiang Medical University, Urumqi 830000, Xinjiang, China)

Objective To evaluate inf l uences of internal sinus elevation on sinus membrane by using CBCT from pre to prooperation.Methods All CBCT scans were input simplant software. The Schneiderian Membrane Thickness(MT) of the sinus floor was evaluated.Results Based on pre-surgery CBCT scans,Membrane thickness was (1.45±0.55)mm,0.65-3.56mm. On pro-surgery CBCT scans,Membrane thickness was (3.64±1.02)mm,2.31-6.54mm.The Schneiderian membrane exhibited signif l cant swelling immediately after surgery (P＜0.05).Conclusion Except postoperative transient swelling showing CBCT. Internal sinus elevation may not be affect the sinus membrane.

internal sinus fl oor elevation;sinus membrane;CBCT imaging;radiographic analysis;implant

R782.2

A

1008-6455（2017）04-0077-02

2016-12-08

2017-02-10