還原爐
- 超快激光在多晶硅還原爐的應(yīng)用技術(shù)優(yōu)化研究
在電子級多晶硅還原爐的應(yīng)用。1 試驗材料與方法1.1 試驗設(shè)備與樣本(1)超聲清洗機,深圳市潤東機電設(shè)備有限公司;熱風(fēng)干燥箱,東莞心舟工業(yè)設(shè)備有限公司;磁力攪拌器,北京北德科學(xué)器材有限公司;高溫烘箱,成都西騰試驗設(shè)備有限公司;手持式靜電噴粉機,臺州力工電器設(shè)備廠;全自動臥式螺旋離心機。(2)無水乙醇(分析純,99.9%),上海昊海生物科技股份有限公司;聚二甲基硅氧烷(分析純,99.9%),廣州市藍鳳化工有限公司;無水乙醚(分析純,99.9%),山東燃奧石油
粘接 2023年9期2023-09-20
- 還原爐內(nèi)多晶硅生長速率控制方法研究
速率的主要因素還原爐內(nèi)多晶硅生長原理為：來自精餾提純后的氯硅烷氣體與提純后的氫氣進行混合，在高溫環(huán)境下發(fā)生反應(yīng)，析出氯硅烷中的硅元素，并依附在硅芯表面進行結(jié)晶生長，形成晶體硅。隨著硅芯表面不斷沉積，硅棒直徑不斷增加，直到達到出爐要求。在還原爐內(nèi)，發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)有很多種，據(jù)資料介紹，目前預(yù)估有80多種反應(yīng)存在，主要反應(yīng)包括以下兩種：(1)(2)通過實驗室觀察和實際生產(chǎn)過程驗證，影響還原反應(yīng)和沉積速率的主要因素有：2.1 物料配比物料配比具體為三氯氫硅和氫氣配
四川化工 2022年6期2023-01-15
- 多晶硅還原生產(chǎn)常見問題及控制對策分析
生長階段多是在還原爐內(nèi)部操作完成。還原爐包括底盤、爐筒，其中底盤上有分布電極分布，常見的若干對棒還原爐即根據(jù)電極對數(shù)得名，例如常見的有24 對棒還原爐和36 對棒還原爐[1]。還原爐底盤在多晶硅重量承載這一方面是不可或缺的部件，也負責(zé)承擔(dān)供電和物料進出、物料分布等，利用底盤的絕緣材料、冷卻介質(zhì)流通管路等，即可實現(xiàn)以上一系列操作功能[2]。還原爐爐筒對于多晶硅而言，也是非常必要的生長空間，還原爐爐筒高度、空間，都會對多晶硅實際產(chǎn)能、電耗指標(biāo)等造成影響，利用爐
山西化工 2022年5期2023-01-14
- 熔融還原熱風(fēng)爐設(shè)計
2]，熱風(fēng)爐為還原爐提供熱風(fēng)的屬性和工作原理同樣適用于非高爐煉鐵。熔融還原煉鐵工藝采用頂燃式熱風(fēng)爐，在熱風(fēng)爐燃燒期，通過燃燒煤氣產(chǎn)生的高溫?zé)煔?，將蓄熱室中的格子磚加熱，儲存熱量；送風(fēng)期，儲存在格子磚中的熱量將冷風(fēng)加熱，持續(xù)向熔融還原爐提供高風(fēng)溫。1 熔融還原工藝介紹相對于傳統(tǒng)長流程高爐煉鐵工藝，熔融還原主要特點是短流程煉鐵工藝，工序上游不需要配置焦化以及完備的鐵礦石造塊工序，礦石在還原爐內(nèi)高溫熔融狀態(tài)下進行還原，產(chǎn)品是熱態(tài)鐵水，直接供給煉鋼車間。熔融還原煉
河南冶金 2022年2期2022-10-17
- 內(nèi)熱式煉鎂爐的溫度場模擬及分析
爐結(jié)晶桶及系統(tǒng)還原爐的溫度場進行了模擬與分析,以期對實際工作有一定的指導(dǎo)意義。1 模型建立與反應(yīng)料物性參數(shù)設(shè)定1.1 模型的建立幾何模型是以試驗爐的尺寸、裝料量、球團料的物性參數(shù)等為依據(jù),采用Pro/e軟件建模,然后轉(zhuǎn)換為＊.STL文件的格式導(dǎo)入到deform軟件中(由于涉及到知識產(chǎn)權(quán)的問題,相關(guān)尺寸略去),如圖1所示。圖1 還原爐的模型示意圖在金屬鎂還原過程中,結(jié)晶鎂的品質(zhì)極大程度上取決于結(jié)晶桶的溫度場分布[4],故首先須分析結(jié)晶桶底部輸入能量為穩(wěn)態(tài)時,
輕金屬 2022年9期2022-10-13
- 多晶硅還原爐電極防護裝置的研究
]。但是在使用還原爐生產(chǎn)多晶硅過程中，經(jīng)常會遇到硅棒倒?fàn)t，損壞還原爐底座上電極情況，這一現(xiàn)象的頻繁發(fā)生直接導(dǎo)致多晶硅生產(chǎn)企業(yè)的生產(chǎn)成本增加，成品率下降，且會使生產(chǎn)出現(xiàn)一定的滯后性，影響總產(chǎn)量。1 目前國內(nèi)多晶硅還原爐電極的現(xiàn)狀還原爐是多晶硅生產(chǎn)的核心設(shè)備，其技術(shù)水平直接影響到企業(yè)生產(chǎn)效率和采用工藝的先進性。電極是還原爐的核心部件，每臺還原爐均裝有數(shù)十件電極，每件電極的工作狀態(tài)和可靠性都直接影響著整臺還原爐設(shè)備的安全性能以及多晶硅產(chǎn)品的產(chǎn)量和質(zhì)量。而電極能否
山西冶金 2022年2期2022-06-04
- 雙良節(jié)能：硅片再獲長單產(chǎn)能持續(xù)釋放
資子公司）簽訂還原爐設(shè)備買賣三方協(xié)議，合同總金額為3.24億元，2022年8月31日前交貨完畢。22年以來，公司陸續(xù)與通威、天合光能以及東方日升等公司簽訂硅片長單，2022年硅片長單銷售量13.64億片，硅棒長單銷售量0.52萬噸，基本實現(xiàn)滿產(chǎn)滿銷;此外，多晶硅還原爐新簽訂單金額已經(jīng)達到18.86億元，接近去年19億元的新增訂單水平。2022年一季度，公司實現(xiàn)營業(yè)收入17.34億元，同比增長299.50%;實現(xiàn)歸母凈利潤1.21億元，同比增長340.80%
股市動態(tài)分析 2022年10期2022-05-17
- 年產(chǎn)30～40 萬噸鉛大型底吹氧化爐與底吹還原爐的設(shè)計運行與探討
1 年熔融側(cè)吹還原爐、熔融底吹還原爐被相繼開發(fā)出來,稱為第二代、第三代氧氣底吹煉鉛技術(shù)。其取代了鼓風(fēng)爐,各底吹煉鉛廠紛紛進行了升級改造。然而,各廠單條生產(chǎn)線的產(chǎn)能規(guī)模多在年產(chǎn)10 萬t 電鉛以內(nèi),僅有一條生產(chǎn)線的產(chǎn)能規(guī)模為年產(chǎn)16 萬噸電鉛,擴大規(guī)模和關(guān)鍵爐體的大型化設(shè)計勢在必行。2020 年7 月投產(chǎn)的河南某鉛冶煉搬遷技改工程,設(shè)計年處理鉛精礦90 萬t、年產(chǎn)電鉛30～40 萬t?；鸱ㄒ睙捁に嚶肪€為第三代氧氣底吹煉鉛技術(shù),精礦熔煉采用底吹氧化爐、高鉛渣還
有色設(shè)備 2022年1期2022-04-27
- 新型氧載體煤催化氣化制氫反應(yīng)裝置及反應(yīng)方法
，該裝置由氣化還原爐、制氫爐和燃燒氧化爐組合，原料煤在氣化還原爐內(nèi)與氣化劑和氧化載體進行催化熱解、氣化、氧化載體還原等反應(yīng)，產(chǎn)生合成氣、氣化半焦和還原載體。其中還原載體再進入制氫爐中進行單一的制氫反應(yīng)，生成富氫氣體和亞氧化/氧化載體。亞氧化/氧化載體和未反應(yīng)完全的還原載體再進入燃燒氧化爐中與含氧氣體和氣化半焦混合接觸，進行燃燒、氧化反應(yīng)，生成的氧化載體再循環(huán)回氣化還原爐，實現(xiàn)了氧化載體的循環(huán)再生，平衡了熱流和物流，提高了氣化強度、碳轉(zhuǎn)化率和氫氣產(chǎn)率。
能源化工 2021年6期2021-12-30
- 側(cè)吹還原爐烘爐新裝置的應(yīng)用
6500）側(cè)吹還原爐是近年來國內(nèi)自主研發(fā)的一種新爐型。該設(shè)備由于對處理的物料有極強的適應(yīng)性，且工藝過程簡潔、環(huán)保效果好，迅速在國內(nèi)銅精礦冶煉、高鉛渣還原及鉛膏蓄電池的綜合回收領(lǐng)域得到廣泛地應(yīng)用[1]。烘爐質(zhì)量的好壞直接關(guān)系到側(cè)吹還原爐投產(chǎn)后的能否穩(wěn)定運行，關(guān)系到側(cè)吹還原爐的使用壽命長短，影響到企業(yè)的生產(chǎn)效益。目前，在有色金屬冶煉生產(chǎn)過程中，側(cè)吹還原爐普遍采用的烘爐方法有以下3種：1）拆除側(cè)吹還原爐爐身端墻的1～2塊銅水套，利用1個大燒嘴對爐缸進行烘爐；2）
有色冶金設(shè)計與研究 2021年5期2021-11-09
- 粉煤在鉛側(cè)吹還原爐生產(chǎn)實踐中的運用
吹熔煉爐及側(cè)吹還原爐均使用粉煤作為燃料。側(cè)吹還原爐用于處理上游富氧頂吹熔煉爐產(chǎn)出的液態(tài)富鉛渣，產(chǎn)出粗鉛及還原渣，還原渣放入下游煙化爐，煙化揮發(fā)回收各種有價金屬。呼倫貝爾馳宏礦業(yè)側(cè)吹還原爐整體呈矩形狀，爐體兩側(cè)設(shè)有25 個一次風(fēng)嘴及4 支粉煤噴槍，爐身采用整體銅水套設(shè)計，爐缸區(qū)域、爐底、虹吸道用鋁鉻質(zhì)耐火磚進行砌筑形成一個整體。1 粉煤在呼倫貝爾馳宏礦業(yè)的使用情況呼倫貝爾馳宏礦業(yè)側(cè)吹還原爐使用粉煤快1 年，從粉煤在冶煉過程中的使用情況來看，主要是為冶煉過程提
中國金屬通報 2021年3期2021-08-01
- 還原爐和煙化爐放渣期煙氣NOx 含量控制可行性實踐
”組合的方法對還原爐和煙化爐的煙氣進行脫硝。煙氣進入鍋爐時，先采用SNCR 法進行高溫脫硝，再經(jīng)兩級石灰-石膏濕法脫硫，然后采用低溫螯合法進行脫硝。經(jīng)組合脫硝后，排放尾氣中的NOx含量由280～800 mg/Nm3降至80 mg/Nm3以下?！癝NCR 法+低溫螯合脫硝”組合脫硝系統(tǒng)試生產(chǎn)后，尾氣中的NOx含量得到有效控制，符合環(huán)境保護部公告2018 年第9 號《關(guān)于京津冀大氣污染傳輸通道城市執(zhí)行大氣污染物特別排放限值的公告》的要求。但是在試生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)，如
有色冶金節(jié)能 2021年1期2021-03-15
- 電子級多晶硅生產(chǎn)還原尾氣中無定型硅去除工藝研究
定的摩爾比，在還原爐高溫硅芯上發(fā)生化學(xué)氣相沉積反應(yīng)，生產(chǎn)出不同等級硅棒，產(chǎn)生的尾氣送至尾氣回收裝置進行分離重復(fù)使用。而還原爐內(nèi)多晶硅沉積過程受到眾多因素的影響，包括還原爐內(nèi)沉積溫度、硅棒電流和電壓、三氯氫硅和氫氣的進料純度及其配比等，在還原爐內(nèi)容易出現(xiàn)霧化現(xiàn)象，產(chǎn)生大量無定型硅，部分無定型硅進入尾氣回收裝置，影響循環(huán)氫氣質(zhì)量，進而影響電子級多晶硅產(chǎn)品質(zhì)量。本文重點分析無定型硅產(chǎn)生原因，從還原爐工藝優(yōu)化調(diào)整、尾氣回收系統(tǒng)過濾除塵方面研究相對應(yīng)無定型硅的去除工
化工設(shè)計通訊 2021年1期2021-01-20
- 電子級多晶硅生產(chǎn)尾氣中無定型硅的產(chǎn)生原因及預(yù)防措施
Cl3與氫氣在還原爐內(nèi)經(jīng)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)過程硅棒生長同時，受SiHCl3進料組分變化、電氣系統(tǒng)不穩(wěn)定、爐內(nèi)溫度等多方面因素影響，還原爐內(nèi)會出現(xiàn)霧化現(xiàn)象，若不及時調(diào)整，霧化會越來越嚴重，產(chǎn)生大量無定型硅粉，一部分無定型硅沉積在還原爐底盤上，給硅棒收割、底盤清理、潔凈操作控制等造成嚴重影響；一部分隨未反應(yīng)物料和反應(yīng)副產(chǎn)物氣體進入后續(xù)尾氣回收系統(tǒng)，對尾氣系統(tǒng)穩(wěn)定運行、機泵設(shè)備、循環(huán)氫氣質(zhì)量及產(chǎn)品質(zhì)量等造成很大的影響，因此，如何去除還原尾氣中無定型硅粉是提高電子級
化工管理 2020年34期2020-12-17
- 高純多晶硅還原沉積過程及能耗淺析
還原單元能耗，還原爐作為還原單元最核心設(shè)備，需要對還原爐從工藝流程、還原爐化學(xué)氣相沉積反應(yīng)過程等方面進行能耗影響因素深入分析。1 還原爐反應(yīng)過程1.1 還原爐工藝流程還原爐內(nèi)裝有垂直安裝硅芯（硅芯直徑約為φ8mm）及與硅芯連接硅橋，還原爐經(jīng)高壓啟動給硅芯通電后，硅棒表面溫度可以達到1050-1150℃（1323-1423K）時，然后將來自精餾工序提純高純度SiHCl3（TCS）與氫氣經(jīng)加熱后混合物送入還原爐，SiHCl3和H2在爐內(nèi)高溫氣氛下被加熱至110
商品與質(zhì)量 2020年42期2020-11-27
- 電子級多晶硅生產(chǎn)中硅芯雜質(zhì)的來源
法[1]是在還原爐內(nèi)通入高純的三氯氫硅(TCS)和氫氣(H2)，使其通過化學(xué)氣相沉積反應(yīng)將多晶硅沉積在熱載體上(即硅芯)，但在實際生產(chǎn)過程中，硅芯在制造過程中和在還原爐初期沉積過程中不同程度受到雜質(zhì)的污染，質(zhì)量等級由半導(dǎo)體級降至太陽能特級，污染問題未能得到有效解決，使多晶硅成品雜質(zhì)分布不均勻，嚴重制約電子級多晶硅產(chǎn)品質(zhì)量的提升，也是當(dāng)前制約國內(nèi)多晶硅用于大尺寸英寸硅片的瓶頸問題，所以解決硅芯雜質(zhì)污染問題是提升電子級多晶硅產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵因素。本文重點從石墨
化工管理 2020年31期2020-11-19
- 多對棒多晶硅還原爐徑向熱輻射的角系數(shù)
0)研究多晶硅還原爐的輻射散熱對降低還原過程的電耗有重要意義。筆者曾在文獻[1]中，對4對、12對、24對和40對棒的多晶硅還原爐徑向熱輻射的角系數(shù)進行了計算和分析，認為硅棒數(shù)量越多，角系數(shù)越小，能耗越低。但角系數(shù)減小的幅度也會變小，認為角系數(shù)與硅棒數(shù)量之間應(yīng)有一極限值。近年來，隨著多晶硅還原爐設(shè)備向多對棒大型化方向發(fā)展[2-5]，還原爐內(nèi)安裝的硅芯數(shù)量越來越多，對多對棒大型化還原爐的徑向熱輻射研究需求也越來越迫切。本文在前文的方法和基礎(chǔ)上，優(yōu)化了計算程序
四川化工 2020年5期2020-10-26
- 不同出氣方式時多晶硅還原爐內(nèi)的流場和熱場模擬
0 引言鐘罩式還原爐是采用改良西門子法制備晶體硅的核心設(shè)備，其工作原理是安裝在底盤上的硅芯通過電阻性發(fā)熱，原料氣體SiHCl3與H2在熾熱硅芯表面發(fā)生化學(xué)氣相沉積反應(yīng)生成晶體硅，產(chǎn)品硅最終以棒狀的形態(tài)從還原爐采出。傳統(tǒng)的多晶硅還原爐采用的是底部進、出氣的方式，即從底盤上開設(shè)的若干個進氣口將SiHCl3與H2噴入還原爐，經(jīng)過一系列化學(xué)反應(yīng)后，反應(yīng)尾氣再從底盤上開設(shè)的若干個出氣口流出。除進、出氣口外，底盤還開設(shè)有若干個電極孔。但隨著多晶硅還原爐向多對棒、大型化
太陽能 2020年7期2020-08-01
- 多晶硅還原爐裝備發(fā)展展望
藝生產(chǎn)過程中，還原爐作為還原工序的關(guān)鍵生產(chǎn)設(shè)備在近年來也得到迅速發(fā)展，十年前還原爐爐型基本停留在12對棒、18對棒以及24對棒等中小爐型，那時候的單線生產(chǎn)規(guī)模并不大，基本維持在1 000～2 500 t/a，還原爐的爐型基本能夠匹配當(dāng)時的生產(chǎn)；但是隨著光伏發(fā)電的迅速增長，光伏多晶硅需求激增，導(dǎo)致多晶硅的生產(chǎn)向大型化發(fā)展，規(guī)?；?yīng)在多晶硅企業(yè)更為凸顯，單線產(chǎn)能基本都是萬噸級以上，如果仍然采用這些中小爐型，則需要還原爐的數(shù)量多，占地面積大，操作維護保養(yǎng)等都需
有色設(shè)備 2020年1期2020-04-02
- 優(yōu)化粗鎘還原爐的研究與應(yīng)用
產(chǎn)系統(tǒng)中，粗鎘還原爐常用爐形是長方形，實際生產(chǎn)過程中，爐底容易出現(xiàn)爐底四角積料，受熱不均，物料難以熔化的情況。同時，還原爐在加熱過程中爐底因受熱不均，極易出現(xiàn)變形現(xiàn)象，還原爐使用壽命縮短，設(shè)備損壞較快。另外，往還原爐內(nèi)加鎘團時，仍為人工加料，不僅勞動強度大，而且加料時堿液飛濺極易對人員造成傷害。且現(xiàn)用的還原劑為松木條，價格較貴，導(dǎo)致生產(chǎn)成本較高。因此，延長還原爐使用壽命，改善精鎘車間工作環(huán)境，降低職工勞動強度及生產(chǎn)成本，提高精鎘生產(chǎn)效益迫在眉睫。1 生產(chǎn)現(xiàn)
世界有色金屬 2019年19期2019-12-27
- 多晶硅還原爐系統(tǒng)余熱回收利用
產(chǎn)成本，多晶硅還原爐系統(tǒng)電耗差不多占總電耗的50%，其主要能耗就是在還原爐硅芯兩端通高壓電，使硅芯由半導(dǎo)體變?yōu)閷?dǎo)體，通過電流使硅芯發(fā)熱，最終硅芯表面溫度達到1000多℃。在1000多℃的條件下原料氣在硅芯上發(fā)生氣相化學(xué)沉積反應(yīng)，生成多晶硅。多晶硅行業(yè)已把降低多晶硅還原爐系統(tǒng)的能耗作為降低多晶硅生產(chǎn)能耗的主要方向，同時對還原爐輻射的余熱進行回收利用，以降低能耗來降低多晶硅的生產(chǎn)成本以提高其競爭能力有重要作用。節(jié)能降耗，余熱的回收利用也符合國家提出節(jié)能環(huán)保要求
山東化工 2019年21期2019-11-26
- 多晶硅還原爐產(chǎn)能影響因素分析及提升措施
，通過噴嘴送入還原爐，在1050～1150 ℃的硅芯(硅棒)表面發(fā)生化學(xué)氣相沉積而成，運行中硅棒直徑逐漸增大，直至達到120～160 mm時，還原爐完成一個生產(chǎn)周期。其主要反應(yīng)方程式如下[1]：其中還原爐結(jié)構(gòu)如圖1所示[2]。1.基盤；2.電極；3.尾氣出氣導(dǎo)管；4．混合氣體進氣口；5．混合氣進氣管；6．底盤冷卻水進水管；7．底盤冷卻水出水管；8．爐體冷卻水進水管；9．爐體冷卻水出水管；10．爐體；11．硅芯；12．爐壁；13．視鏡孔圖1 還原爐結(jié)構(gòu)示意圖
山東化工 2019年9期2019-05-31
- 還原爐冷卻水工藝優(yōu)化
為熱能，以維持還原爐內(nèi)硅棒表面溫度1 000℃～1 100℃。還原爐內(nèi)傳熱主要以熱輻射為主，根據(jù)物體對熱能的反射、吸收和透射作用的理論，生產(chǎn)中還原爐因內(nèi)壁易沉積硅垢(不定型硅和硅油)，導(dǎo)致還原爐內(nèi)熱量漫反射減少，爐內(nèi)大量的熱量被鐘罩內(nèi)壁基盤面吸收。還原爐設(shè)備的主體材質(zhì)為不銹鋼，為了保障生產(chǎn)的安全運行，延長設(shè)備使用壽命，及時帶走各個部位輻射的熱量。在整個還原爐殼體及底盤外部設(shè)有循環(huán)冷卻水夾套，采用高溫循環(huán)冷卻水進行冷卻，以維持壁面溫度恒定。有研究證明，冷卻水
有色金屬設(shè)計 2019年1期2019-04-25
- 基于數(shù)值模擬電子級多晶硅還原爐流動結(jié)構(gòu)改進研究
是西門子CVD還原爐[3]。在爐體內(nèi)部，氣體流動主要是強制對流，混合進料氣體經(jīng)過多個噴嘴噴射到還原爐內(nèi)部，停留一段時間后夾帶著反應(yīng)尾氣的混合氣體排出。除了補充化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的反應(yīng)物和帶走反應(yīng)尾氣，還原爐內(nèi)混合氣體的流動還深刻的影響著還原爐內(nèi)，特別是硅棒表面的溫度分布[4]。因此，通過改變沉積區(qū)域傳質(zhì)邊界層厚度和沉積區(qū)域溫度分布，還原爐內(nèi)氣體流動結(jié)構(gòu)對多晶硅沉積過程有著直接的影響[5]。噴嘴和出氣口的布置對還原爐內(nèi)氣體流動發(fā)揮著至關(guān)重要的作用[6]。對于特
人工晶體學(xué)報 2019年3期2019-04-17
- 多晶硅還原爐尾氣管、視鏡泄漏的原因分析及其處理方法
多晶硅生產(chǎn)中，還原爐底盤尾氣管材料一般選用耐高溫的INCO8800、INCO8810材料，目前我國使用的該型號材料主要以進口為主。其主要特性為800H/HT為面心立方晶格結(jié)構(gòu)，是一種廣泛應(yīng)用于高溫承壓結(jié)構(gòu)件的奧氏體耐熱合金。800H/HT的高強度主要是由于添加了碳，鋁，鈦元素，并且在最低1149℃溫度下退火以達到晶粒度ASTM5等級或者更粗。極低的碳含量和提高了的Ti：C比率增加了結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性和最大的抗敏化性以及抗晶間腐蝕性，950℃左右的低溫退火保證了細
冶金與材料 2019年1期2019-04-04
- 多晶硅生產(chǎn)質(zhì)量控制探討
650051）還原爐生產(chǎn)多晶硅是一個工藝控制復(fù)雜的過程，反應(yīng)原料、硅芯潔凈度、還原爐置換、還原爐內(nèi)溫度和進料控制以及停爐是否倒棒，都對多晶硅產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生很大的影響。通過三氯氫硅氫還原生產(chǎn)工藝和操作經(jīng)驗，對還原內(nèi)多晶硅產(chǎn)品質(zhì)量的影響因素進行分析，并提出關(guān)鍵控制措施。1 三氯氫硅氫還原原理經(jīng)精餾塔提純的三氯氫硅，送入還原工序汽化器，經(jīng)過汽化和進一步加熱后的三氯氫硅與尾氣回收系統(tǒng)回收的氫氣按照一定的比例混合，進入還原爐內(nèi)[1]?；旌蠚怏w在表面溫度達到1050～1
云南化工 2019年1期2019-03-29
- 多晶硅無定型硅粉形成原因及控制
氯氫硅與氫氣在還原爐內(nèi)還原而來，主反應(yīng)機理如下[1-2]：在還原爐中反應(yīng)生成的顆粒硅沉積在硅，芯上，生成棒狀多晶硅。但在還原運行過程中，由于受到（物料中）二氯二氫硅含量變化、爐筒水溫、鐘罩清洗情況、尾氣管結(jié)硅及換熱情況、還原爐配比、溫度等多方面因素影響[3]，還原爐內(nèi)會產(chǎn)生無定型硅粉。無定型硅粉或懸浮在反應(yīng)氣流中，或沉積在還原爐基盤上。還原爐基盤上的無定型硅粉情況如圖1所示。圖1 還原爐基盤上的無定型硅粉由于還原過程都是控制人員按照既定的工藝曲線控制，判斷
云南化工 2019年1期2019-03-29
- 基于PolySim電子級多晶硅還原爐三維數(shù)值模擬
5-6]在假設(shè)還原爐內(nèi)氣體流動為層流的條件下，建立了西門子反應(yīng)器的完全模型，并對反應(yīng)器中硅棒的熱輻射損失進行了數(shù)值模擬研究，研究表明，增加爐內(nèi)硅棒數(shù)目，增強內(nèi)壁材料發(fā)射率可以明顯降低還原能耗。侯彥青等[7]通過研究Si-H-CI三元系熱力學(xué)得到：以TCS為原料時，硅沉積過程中的最佳操作條件。但是已有模擬研究往往是針對光伏級多晶硅的還原過程。盡管光伏級多晶硅和電子級多晶硅生產(chǎn)工藝均可通過改良西門子法制備，但是電子級多晶硅的生產(chǎn)有著更加苛刻的工藝條件要求，除了
人工晶體學(xué)報 2019年1期2019-02-19
- 多晶硅生產(chǎn)中能耗的分析及節(jié)能對策分析
3.1 多晶硅還原爐大型化在將多晶硅還原爐大型化后能夠充分的利用熱量，可以減少熱量的流失。當(dāng)前我國多晶硅生產(chǎn)企業(yè)主要使用的還原爐是18對棒；24對棒以及36對棒，有些多晶硅生產(chǎn)企業(yè)在資金充裕的條件下加大對48對棒，72對棒還原爐研發(fā)資金投入。在國外多晶硅生產(chǎn)企業(yè)采用的還原爐規(guī)格是在12對棒以上，譬如Centrotherm Photovoltaics AG，它所供應(yīng)的還原爐大多是18對棒和24對棒兩種規(guī)格；而Poly Plant Project Inc，它所
商品與質(zhì)量 2018年35期2018-12-07
- 一種連續(xù)直接煉鉛的方法
別作為氧化爐、還原爐及煙化爐連續(xù)作業(yè)。富氧側(cè)吹爐將硫化鉛精礦或其他含鉛物料加入完成氧化熔煉，產(chǎn)出部分一次粗鉛和液態(tài)高鉛渣;液態(tài)高鉛渣連續(xù)流入富氧側(cè)吹還原爐進行連續(xù)還原熔煉，產(chǎn)出二次粗鉛和含鋅還原熔渣，含鋅還原熔渣連續(xù)流入富氧側(cè)吹煙化爐連續(xù)吹煉，回收渣中的鋅。還原爐采用富氧側(cè)吹爐還使得還原劑可直接采用碎煤，無需粉煤制備。煙化爐采用富氧側(cè)吹爐，由于富氧側(cè)吹爐采用銅水套進行冷卻，所以吹煉爐渣可以使用氧氣濃度較高的富氧空氣，來降低鼓風(fēng)強度和減少鼓風(fēng)量，提高吹煉強度
有色金屬材料與工程 2018年2期2018-11-25
- 側(cè)吹還原爐噴槍耐火磚侵蝕分析與對策
工藝。其中側(cè)吹還原爐為矩形結(jié)構(gòu)，兩側(cè)分別安裝8支噴槍，爐外部為鋼爐殼，并襯裝水套，內(nèi)部用鎂鉻質(zhì)耐火磚砌筑，其中噴槍磚與爐底、爐墻磚砌筑形成一個整體。噴槍磚的使用壽命與側(cè)吹還原爐的整體爐齡密切相關(guān)，國內(nèi)其它側(cè)吹還原爐整體爐齡在12個月左右，而噴槍磚壽命僅有3～6個月，延長噴槍磚壽命對于提高全流程的效率具有重要意義。1 氧氣側(cè)吹還原工藝原理艾薩爐產(chǎn)出的液態(tài)富鉛渣直接經(jīng)熱渣口進入還原爐，還原爐兩側(cè)有煤氣噴嘴、工業(yè)氧噴槍為爐內(nèi)提供熱源；塊煤和碎焦作為還原劑,石灰石
中國有色冶金 2018年1期2018-03-16
- 多晶硅還原爐U-I曲線計算與分析
產(chǎn)與應(yīng)用多晶硅還原爐U-I曲線計算與分析楊楠1楊志國2詹水華3趙建3(1.新疆東方希望新能源有限公司，新疆昌吉，831799；2.華陸工程科技有限責(zé)任公司，陜西西安，710065；3.江蘇雙良新能源裝備有限公司，江蘇江陰；214444)以18對棒多晶硅還原爐為研究對象，通過熱量平衡，分析了硅棒輻射散熱Q1，進出氣相物料焓變Q2，以及反應(yīng)熱Q3，計算了不同生長階段還原電源系統(tǒng)需要供給的總功率P。同時結(jié)合多晶硅的電阻特性和歐姆定律，得到18對棒多晶硅還原爐的U
四川化工 2017年6期2018-01-02
- 氫還原后三氯氫硅的雜質(zhì)控制
高溫下?lián)]發(fā)進入還原爐，與還原爐中大量的氫氣反應(yīng)生成 CH4[7]和甲基氯硅烷[8]，CH4進入尾氣回收系統(tǒng)后，存在于回收氫氣中無法分離出來，而甲基氯硅烷則進入還原后的氯硅烷，最后再次進入還原爐，并沉積在硅棒上。為控制回收氫氣和還原后TCS中雜質(zhì)碳的含量，采取一些措施：（1）將石墨夾頭在1 200 ℃下進行煅燒，除去里面殘留的水分和灰分；（2）當(dāng)還原爐運行一個周期后，石墨夾頭表面一般沉積一層致密的多晶硅，經(jīng)過工藝和石墨夾頭結(jié)構(gòu)調(diào)整，將石墨夾頭回收使用，可以減
化學(xué)反應(yīng)工程與工藝 2017年3期2017-11-01
- 還原爐運行間隔時間對三氯氫硅總進料平穩(wěn)性的影響
楊 楠，詹水華還原爐運行間隔時間對三氯氫硅總進料平穩(wěn)性的影響楊楠1，詹水華2（1. 新疆東方希望新能源有限公司，新疆 昌吉 831799； 2. 江蘇雙良新能源裝備有限公司，江蘇 江陰 214444）根據(jù)單臺24對棒還原爐的SiHCl3進料曲線，采用Matlab編程，分析了30臺還原爐的運行間隔時間對SiHCl3總進料量平穩(wěn)性的影響，并計算出最合理的運行間隔時間為4 h，方法和結(jié)果可作為實際生產(chǎn)運行的參考和指導(dǎo)。多晶硅；還原爐；間隔時間；三氯氫硅；平穩(wěn)性三
遼寧化工 2017年1期2017-03-20
- 多晶硅還原爐夾套式封頭熱-機械耦合場有限元分析
008)多晶硅還原爐夾套式封頭熱-機械耦合場有限元分析李耀宙(太原工業(yè)學(xué)院，山西太原，030008)多晶硅還原爐是西門子法生產(chǎn)多晶硅的主要設(shè)備，由于進氣管、出氣管和電極座等部件都布置在封頭處，導(dǎo)致封頭溫度分布不均勻，引起很大的溫差應(yīng)力，因此還原爐封頭處存在很大的結(jié)構(gòu)安全隱患。本文利用ANSYS，采用APDL語言，建立了某大型多晶硅還原爐夾套式封頭1/4有限元模型。考慮到材料的非線性特性，對夾套式封頭結(jié)構(gòu)進行了仿真計算，給出了整體結(jié)構(gòu)、上下花板和電極座溫度分
四川化工 2017年1期2017-03-01
- 多晶硅表面菜花控制的研究*
到溫度和物料在還原爐內(nèi)分布的影響。通過還原爐內(nèi)硅棒加載電流、爐筒壁面光潔度、進料噴嘴結(jié)構(gòu)對菜花的影響進行研究,結(jié)果表明：(1)加載電流適宜，使硅棒表面溫場分布均勻，且T≤Tmax，可減少硅棒表面菜花；(2)爐筒壁越光潔，菜花占比及電單耗越低；(3)進料噴嘴口徑變小、高度增加，多晶硅橫梁菜花降低，但前期易倒棒，而螺旋形噴嘴可降低硅棒表面菜花及還原爐倒棒率。多晶硅；表面菜花；噴嘴；溫場；CVD多晶硅是制備太陽能光伏電池的原材料，其主要是通過西門子法生產(chǎn)得到[1
廣州化工 2016年10期2016-09-01
- 多晶硅還原熱能利用途徑的探討
成本。多晶硅；還原爐；冷卻介質(zhì)；熱能利用引言隨著太陽能光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，多晶硅作為光伏產(chǎn)業(yè)鏈的基石，也得到迅猛的發(fā)展，裝置產(chǎn)能規(guī)模逐步擴大。目前國內(nèi)產(chǎn)能已經(jīng)過剩，如何有效降低生產(chǎn)成本，成為各多晶硅生產(chǎn)工廠盈利的根本。本文系統(tǒng)的探討了一種以高溫水為熱載體對還原熱能進行綜合利用的方法，通過這種方法可以有效降低多晶硅生產(chǎn)的綜合能耗，從而實現(xiàn)降低生產(chǎn)成本的目的。本文供多晶硅生產(chǎn)工廠參考。1 多晶硅還原生產(chǎn)工藝多晶硅為重要的半導(dǎo)體材料，國內(nèi)多晶硅的生產(chǎn)主要采用改良
工業(yè)技術(shù)創(chuàng)新 2016年3期2016-08-15
- 還原爐直通式流槽改造實踐
459000）還原爐直通式流槽改造實踐李艷利，常海鋒，鄭 明 （河南豫光金鉛股份有限公司，河南濟源 459000）通過直通式流槽改造，替代還原爐渣包吊裝進渣方式，實現(xiàn)底吹爐高鉛渣直接流入還原爐，減少磕包渣的中間資金占用，實現(xiàn)增產(chǎn)創(chuàng)效。直通流槽；進渣方式；磕包渣；占用河南豫光金鉛股份有限公司Φ3 000×11 500 mm還原爐是國內(nèi)第一臺工業(yè)化生產(chǎn)的鉛冶煉底吹還原系統(tǒng)，建設(shè)初期為減少對底吹爐生產(chǎn)的影響，該爐試驗過程中采取與底吹爐平行布局、渣包吊裝進渣的配置
湖南有色金屬 2016年1期2016-06-15
- 新型還原爐流場溫度場的模擬研究
統(tǒng)西門子多晶硅還原爐內(nèi)的流場與溫度場的分布狀況進行了模擬研究;段連［7］、黃哲慶［8］通過改進還原爐的進出氣方式來提高還原爐內(nèi)部流場及溫度場的均勻性;王曉靜等［9］對還原爐底盤的冷卻方式做了改進，提高了底盤溫度分布狀態(tài);王燕［10］、王惠存［11］對進出氣導(dǎo)管長度進行了改進，以有利于爐內(nèi)混合氣體分布更加均勻?；旌蠚怏w在反應(yīng)器內(nèi)流動均勻性在很多領(lǐng)域中都是很重要的衡量指標(biāo)，合理地改進還原爐結(jié)構(gòu)，保證還原爐內(nèi)反應(yīng)區(qū)域的流場、溫度場的均勻性，是有效提高多晶硅產(chǎn)品質(zhì)
化學(xué)工業(yè)與工程 2016年4期2016-04-11
- 多晶硅還原爐倒棒原因分析
004）多晶硅還原爐倒棒原因分析于偉華1，2，王 彬1，田 新1，2，3，張春偉1，2 （1.江蘇中能硅業(yè)科技發(fā)展有限公司，江蘇徐州 221004；2.江蘇協(xié)鑫特種材料科技有限公司，江蘇徐州 221004；3.江蘇鑫華半導(dǎo)體材料科技有限公司，江蘇徐州 221004）分析了多晶硅還原爐倒棒的危害，并對多晶硅還原爐倒棒的原因進行了探究，最后給出了預(yù)防多晶硅還原爐倒棒的有效措施，為預(yù)防多晶硅還原爐倒棒提供了一些參考。多晶硅；還原爐；倒棒；原因分析硅是太陽能光伏產(chǎn)
化工設(shè)計通訊 2016年5期2016-03-13
- 還原爐鐘罩鏡面拋光對多晶硅生產(chǎn)節(jié)能的影響
）【經(jīng)驗交流】還原爐鐘罩鏡面拋光對多晶硅生產(chǎn)節(jié)能的影響李文強1,*，王秉琳2，王琪3（1.黃河水電光伏產(chǎn)業(yè)技術(shù)有限公司，青海 西寧 810000；2.青海黃河水電公司新能源分公司，青海 西寧 810007；3.上海脈諾金屬表面處理技術(shù)有限公司，上海 201400）采取機械拋光與電化學(xué)拋光相結(jié)合的方法，對多晶硅生產(chǎn)用還原爐鐘罩內(nèi)壁進行修復(fù)處理，在保證還原爐內(nèi)壁表面較好粗糙度的基礎(chǔ)上，提高其抗腐蝕能力，以達到最好的拋光效果。拋光后大大提高了電子級多晶硅生產(chǎn)的節(jié)
電鍍與涂飾 2015年24期2015-12-29
- 多晶硅還原爐的模擬腐蝕試驗研究
116)多晶硅還原爐的模擬腐蝕試驗研究任智銓1魏 婷2汪 劍1江 利2(1.江蘇省特種設(shè)備安全監(jiān)督檢驗研究院徐州分院 徐州 221006) (2.中國礦業(yè)大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院 徐州 221116)在對還原爐進行檢驗時，在其內(nèi)筒（316L不銹鋼）焊縫附近發(fā)現(xiàn)了點腐蝕和裂紋，為分析上述缺陷形成原因，筆者設(shè)計了一個還原爐腐蝕缺陷的試驗研究系統(tǒng)，對316L不銹鋼進行腐蝕試驗研究。通過金相顯微鏡、掃描電鏡觀察及EDS分析等手段，研究了腐蝕機理，并提出了預(yù)防措施。
中國特種設(shè)備安全 2015年9期2015-12-17
- 還原爐熱渣倒運的改造實踐
451900）還原爐熱渣倒運的改造實踐胡澤勝常海鋒孫任威張勇河南豫光金鉛股份有限公司（451900）通過還原爐放渣方式的改造，將還原爐渣水淬冷卻的方式，改為熱渣車載倒運至煙化爐，以熱渣形式加入煙化爐提鋅，降低能源消耗。熱渣；車載；倒運；能源消耗河南豫光金鉛股份有限公司是一家生產(chǎn)精鉛40萬t/a的大型有色冶煉企業(yè)，該公司熔煉廠的兩條底吹爐生產(chǎn)線分別于2002年、2005年相繼投產(chǎn)，高鉛渣鑄塊冷卻/鼓風(fēng)爐熔煉工藝因含硫尾氣治理成本過高、效果不佳等因素，2013
河南建材 2015年5期2015-03-21
- 側(cè)吹熔融還原爐的設(shè)計及應(yīng)用
8)?側(cè)吹熔融還原爐的設(shè)計及應(yīng)用馮雙杰(中國恩菲工程技術(shù)有限公司， 北京 10038)簡述了側(cè)吹熔融還原爐的生產(chǎn)概況，介紹了還原爐主要部件的結(jié)構(gòu)設(shè)計，列舉了還原爐的生產(chǎn)實踐，總結(jié)了還原爐的特點。液態(tài)高鉛渣; 直接還原; 側(cè)吹熔融還原爐; 富氧; 熔池熔煉目前，硫化鉛精礦的直接熔煉工藝，大體分為兩類：一類是閃速熔煉，如基夫賽特法；一類是熔池熔煉，如QSL法、水口山法、奧斯麥特法、艾薩法和卡爾多爐法。其中，QSL法、基夫賽特法為兩室一步煉鉛法；卡爾多法為兩周期
中國有色冶金 2015年3期2015-03-06
- N2015089 金德鉛業(yè)還原爐項目竣工投產(chǎn)
89 金德鉛業(yè)還原爐項目竣工投產(chǎn)金德鉛業(yè)氧氣側(cè)吹金屬熔煉還原爐項目竣工投產(chǎn)。氧氣側(cè)吹金屬熔煉還原爐是目前世界上先進的鉛冶煉爐之一，具有原料適應(yīng)性強、生產(chǎn)成本低、節(jié)能減排效果顯著等特點，尤其對于處理氧氣底吹爐產(chǎn)出液態(tài)高鉛渣和鉛雜料具有突出的優(yōu)勢。金德鉛業(yè)原采用氧氣底吹熔煉─鼓風(fēng)爐還原(SKS)煉粗鉛工藝。鼓風(fēng)爐還原改為液態(tài)高鉛渣直接還原，符合技術(shù)發(fā)展方向，工藝先進、成熟、可靠。項目于2011年10月批準立項，2013年9月“還原爐項目可行性研究報告”通過專家
中國有色冶金 2015年5期2015-01-28
- 多晶硅還原爐倒棒原因分析
011)多晶硅還原爐倒棒原因分析何書玉 宋張佐 （昆明冶研新材料股份有限公司 云南 曲靖 655011)多晶硅還原爐在生產(chǎn)過程中經(jīng)常會倒棒，嚴重影響著多晶硅的正常生產(chǎn)。多晶硅倒棒后對還原爐內(nèi)壁、電極、基盤都會造成嚴重的損壞，會砸壞石墨夾頭、隔熱石英環(huán)等備件從而增加生產(chǎn)成本，同時高倒棒率會導(dǎo)致還原爐頻繁開停爐，降低開爐成功率，增加勞動負荷，更為嚴重的是倒棒后的硅料會與無定型硅粉、石墨夾頭摻雜在一起，降低產(chǎn)品的質(zhì)量。倒棒率；多晶硅；還原爐由于能源危機和環(huán)境保護
化工管理 2014年8期2014-08-15
- 懸浮預(yù)熱閃速焙燒裝置的技術(shù)改造
預(yù)熱器帶噴騰式還原爐，煤氣熱風(fēng)爐提供熱源及還原氣氛，出一級筒的廢氣經(jīng)3-Φ800 mm旋風(fēng)除塵器處理后經(jīng)高溫風(fēng)機，一部分循環(huán)使用，另一部分送至烘干車間。鋼板庫內(nèi)的尾礦粉經(jīng)喂料提升設(shè)備，從一級旋風(fēng)筒的進風(fēng)管進入懸浮預(yù)熱閃速焙燒裝置，經(jīng)三級預(yù)熱后進入噴騰式還原爐，在爐內(nèi)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)：3Fe2O3+CO→2Fe3O4+CO2，生成的Fe3O4被廢氣帶入四級筒，從四級筒排出后經(jīng)冷卻機冷卻，再由輸送設(shè)備送入選礦車間。懸浮預(yù)熱閃速焙燒裝置中各設(shè)備的基本工作參數(shù)見表1。
建材技術(shù)與應(yīng)用 2014年2期2014-03-23
- 中國恩菲總包雙底吹煉鉛項目投產(chǎn)
鉛、出渣，底吹還原爐順利接渣。9月1日，底吹還原爐順利出鉛，9月2日還原爐順利放渣。至此，赤峰山金雙底吹煉鉛系統(tǒng)全線拉通，一次開爐成功，生產(chǎn)平穩(wěn)。與采用同類裝備的其他項目不同，該項目在原有設(shè)施基礎(chǔ)上進行技術(shù)升級，需要最大限度發(fā)揮原有設(shè)施效用、節(jié)省投資。為達到利舊和節(jié)約投資的目的，中國恩菲項目團隊認真分析論證，并與業(yè)主充分溝通，充分發(fā)揮公司氧氣底吹煉鉛技術(shù)優(yōu)勢，圓滿完成了符合本項目要求的“雙底吹”工藝和“三連爐”配置。同時，對噴槍等核心設(shè)備、水淬系統(tǒng)、通風(fēng)系
有色設(shè)備 2014年5期2014-03-08
- 多晶硅還原爐冷卻水再利用技術(shù)
011）多晶硅還原爐冷卻水再利用技術(shù)尹玉晶，周萬禮（昆明冶研新材料股份有限公司，云南曲靖 655011）提出一種將多晶硅還原爐高溫冷卻水用于溴化鋰機組驅(qū)動熱源的余熱回收利用方案，能夠有效的將冷卻水余熱進行利用，可適當(dāng)降低多晶硅生產(chǎn)成本。高溫冷卻水；溴化鋰機組；多晶硅還原爐在多晶硅生產(chǎn)過程中，主體設(shè)備還原爐反應(yīng)溫度高于1000℃，這些熱能要通過空冷器、循環(huán)水等來進行冷卻。同時，在制冷、換熱等環(huán)節(jié)又要消耗大量的蒸汽，造成能耗的增加。將多晶硅還原爐高溫冷卻水用于
云南化工 2014年1期2014-02-15
- 還原爐進料夾液對生產(chǎn)的影響及控制措施
655011）還原爐進料夾液對生產(chǎn)的影響及控制措施吳世偉，羅 浩（昆明冶研新材料股份有限公司云南曲靖 655011）分析了多晶硅還原爐進料夾液產(chǎn)生的原因及其對生產(chǎn)的影響。主輸送管位置高于各還原爐進料管是產(chǎn)生進料夾液的主因，進料夾液易造成還原爐跳停、控制不穩(wěn)定等故障，可通過降低主輸送管的位置、輸送管設(shè)置電伴熱、還原爐進料管配置排液管等措施解決還原爐進料夾液的問題。多晶硅；還原爐；進料；夾液多晶硅是太陽能電池片及電子信息產(chǎn)業(yè)最基礎(chǔ)的材料，主要采用改良西門子法生
云南化工 2014年4期2014-02-14
- 底吹電熱熔融還原爐余熱鍋爐設(shè)計及應(yīng)用
言底吹電熱熔融還原爐為中國恩菲工程技術(shù)有限公司自主研發(fā)的有色冶金爐，該專利技術(shù)首次工業(yè)化在安陽市岷山有色金屬有限責(zé)任公司應(yīng)用，于2011年11月順利投產(chǎn)，目前整體運行良好。為了冷卻底吹電熱熔融還原爐排出的高溫?zé)煔?，在其煙氣出口設(shè)置了余熱鍋爐，用于回收煙氣中的熱量，降低煙氣溫度。余熱鍋爐生產(chǎn)壓力為4.0MPa的飽和蒸汽，供生產(chǎn)、生活蒸汽用戶使用，也可驅(qū)動飽和蒸汽汽輪機組發(fā)電，實現(xiàn)有效的節(jié)能減排。底吹電熱熔融還原爐煙氣具有溫度高、微還原氣氛，煙塵粘結(jié)性強等特點
銅業(yè)工程 2014年1期2014-01-01
- 復(fù)雜控制系統(tǒng)在多晶硅項目中的應(yīng)用
純后的氫氣，在還原爐內(nèi)電加熱至1000～1100℃，沉積成棒狀多晶硅產(chǎn)品，其主要化學(xué)反應(yīng)：SiHCl3+H2→Si+3HCl實際反應(yīng)須多次循環(huán)才能漸進完成反應(yīng)過程。另外在不同溫度下主要反應(yīng)是可逆的,還原過程的尾氣，仍需用某公司裝置回收氫氣、氯化氫和氯硅烷混合物，后者經(jīng)分離為TCS,TET。所有尾氣成分都分別循環(huán)回收利用，其中TET送氫化工序。將各工序回收的TET集中起來進行氫化(包括自身循環(huán)的TET)，每次氫化循環(huán)只有17%左右的TET轉(zhuǎn)化為TCS，其反應(yīng)
石油化工自動化 2013年3期2013-10-31
- 改良西門子法多晶硅生產(chǎn)工藝關(guān)鍵設(shè)備
2 三氯氫硅氫還原爐還原爐是多晶硅生產(chǎn)中最重要的設(shè)備之一，其內(nèi)發(fā)生的三氯氫硅的氫還原反應(yīng)如下：圖1 改良西門子法工藝流程圖[3]Fig. 1 Flow char of the polysilicon plant[3] with improved Simens method目前國際上使用改良西門子法生產(chǎn)多晶硅的工廠采用的是立式鐘罩型還原爐，主要由底盤、含夾套冷卻水的鐘罩式雙層爐體、電極等結(jié)構(gòu)組成，如圖2所示[4]。圖2 立式多晶硅還原爐示意圖Fig. 2 V
當(dāng)代化工 2013年7期2013-09-18
- 某光伏行業(yè)多晶硅還原爐變壓器燒毀實例分析
150℃時，在還原爐內(nèi)主要發(fā)生下列反應(yīng):SiHCI3+H2=Si+3HCI（氫化還原反應(yīng)）［1］。而多晶硅還原爐是多晶硅生產(chǎn)過程中非常關(guān)鍵的設(shè)備，在其爐內(nèi)完成從SiHCl3到多晶硅的生產(chǎn)工藝環(huán)節(jié)，控制好爐內(nèi)溫度，直接關(guān)系到其內(nèi)硅芯的還原純度和最終多晶硅產(chǎn)品質(zhì)量的優(yōu)劣，因而為還原爐提供加熱電源的還原爐變壓器設(shè)備就擔(dān)負著非常重要的作用［2］。研究者一致對還原爐變壓器局部發(fā)熱問題進行分析改進，還原爐變壓器工作時，三相繞組電流工作不平衡嚴重，超過20%，達到50%
機電工程 2013年4期2013-09-15
- 液態(tài)高鉛渣直接還原工藝的發(fā)展前景
第二臺反應(yīng)器（還原爐）往往都是采用傳統(tǒng)的鼓風(fēng)爐。由于鼓風(fēng)爐需冶煉塊料，故需將氧化爐產(chǎn)出的高鉛渣鑄成渣塊，與塊狀焦炭一起加入鼓風(fēng)爐進行還原熔煉。最近幾年，我國冶金工作者自主研發(fā)了液態(tài)熱渣直接還原技術(shù)，用底吹爐或側(cè)吹爐作第二臺反應(yīng)器（還原爐），將第一臺反應(yīng)器（氧化爐）產(chǎn)出的高鉛渣直接流入第二臺反應(yīng)器（還原爐），并加入還原劑，將液態(tài)高鉛渣進行直接還原。目前國內(nèi)已經(jīng)有不少鉛冶煉廠為了滿足國家日趨嚴格的能源、環(huán)保政策和清潔生產(chǎn)的要求，進行節(jié)能減排，選擇將高鉛渣進行直
湖南有色金屬 2013年6期2013-06-22
- 還原爐電極外套強制冷卻裝置的研究
機械有限公司)還原爐電極外套強制冷卻裝置的研究李翔*邢桂萍 劉亞洲（三門峽化工機械有限公司)分析了常用的還原爐電極外套強制冷卻裝置在技術(shù)上的不足，提出了新的強制冷卻裝置的設(shè)計方案。新的冷卻裝置在實際應(yīng)用中取得了很好的效果，從而保證了多晶硅的產(chǎn)量和質(zhì)量。冷卻裝置還原爐電極外套強制冷卻多晶硅隨著國家可持續(xù)發(fā)展及加大綠色環(huán)保能源的開發(fā)利用政策的不斷加強，近幾年光伏產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展，太陽能電池對多晶硅的需求量快速增加，導(dǎo)致國內(nèi)外太陽能級多晶硅的需求量缺口不斷增大。發(fā)展
化工裝備技術(shù) 2012年3期2012-12-13